富勒烯作为电子束抗蚀剂在纳米光刻中的应用

摘要

纳米光刻对于纳米电子学的研究与发展具有非常重要的意义.分子尺寸为0.7纳米且可发生电子束诱导聚合的富勒烯(主要是C60),可以作为电子束抗蚀剂,用于电子束纳米光刻,制作纳米级精细图形.这类抗蚀剂主要有三种类型:纯C60、C60衍生物及C60与常用抗蚀剂形成的纳米复合抗蚀剂.介绍了这方面工作的研究现状、存在的问题及发展前景.