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Conference on photomask and X-Ray mask technology
Conference on photomask and X-Ray mask technology
召开年:
1998
召开地:
Kawasaki(JP)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
New flatness measurement instrument for 230-mm la
机译:
适用于230mm la的新型平面度测量仪
作者:
Paul G. Dewa
;
Tropel Corp.
;
Newark
;
NY
;
USA
;
Andrew W. Kulawiec
;
Tropel Corp.
;
Fairport
;
NY
;
USA
;
Steve Mack
;
Tropel Corp.
;
Fairport
;
NY
;
USA
;
John J. Nemechek
;
Tropel Corp.
;
Rochester
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
2.
Application of dry etching to 1-Gb DRAM mask fabrication,
机译:
干法蚀刻在1-Gb DRAM掩模制造中的应用,
作者:
Takashi Inoue
;
NEC Corp.
;
Kanagawa
;
Japan
;
Yoshiki Matsuda
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan
;
Yoshiyuki Tanaka
;
NEC Corp.
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
3.
Modified particle detection method for reticle/mask particle detection system
机译:
用于掩模版/掩模的粒子检测系统的改进的粒子检测方法
作者:
Yoshinori Nagai
;
HORIBA Ltd.
;
Minami-ku Kyoto
;
Japan
;
Toyoki Kanzaki
;
HORIBA Ltd.
;
Minami-ku Kyoto
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
4.
Present status of ArF lithography development and mask technology
机译:
ArF光刻技术发展与掩模技术的现状
作者:
Hiroaki Morimoto
;
Semiconductor Leading Edge Technologies
;
Inc.
;
Yokohama Kanagawa
;
Japan
;
Hiroshi Ohtsuka
;
Semiconductor Leading Edge Technologies
;
Inc.
;
Yokohama Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
5.
Optimization of Zr-Si compound films for attenuated PSM
机译:
衰减PSM的Zr-Si复合膜的优化
作者:
Takashi Haraguchi
;
Toppan Printing Co.
;
Ltd.
;
Kita-Katsushika-gun
;
Japan
;
Tadashi Matsuo
;
Toppan Printing Co.
;
Ltd.
;
Kita-Katsushika Saitama
;
Japan
;
Susumu Takeuchi
;
Toppan Printing Co.
;
Ltd.
;
Kita-Katsushika-gun Saita
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
6.
Two-step etching process for small-size pattern
机译:
小尺寸图案的两步蚀刻工艺
作者:
Kenny Yang
;
Taiwan Mask Corp.
;
Hsinchu
;
Taiwan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
7.
Foundry mask shop in Taiwan
机译:
台湾铸造口罩店
作者:
Chue-San Yoo
;
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.
;
Ltd.
;
Hsin-Chu
;
Taiwan
;
Jia-Jinq Wang
;
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.
;
Ltd.
;
Hsinchu
;
Taiwan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
8.
High-density plasma dry etch for DUV attenuated phase-shifting masks
机译:
用于DUV衰减相移掩模的高密度等离子体干法蚀刻
作者:
Song Peng
;
IBM Microelectronics Div.
;
South Burlington
;
VT
;
USA
;
William J. Adair
;
IBM Microelectronics Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
9.
Optimization of ZEN4100(2)
机译:
ZEN4100的优化(2)
作者:
Noriyuki Mitao
;
Nippon Zeon Co.
;
Ltd.
;
Kanagawa-ken
;
Japan
;
Nobunori Abe
;
Nippon Zeon Co.
;
Ltd.
;
Kanagawa-ken
;
Japan
;
Masahiko Sugimura
;
Nippon Zeon Co.
;
Ltd.
;
Kawasaki Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
10.
Chemical-amplification positive-resist design for 0.18-um reticle fabrication using the 50-kV HL-800M electron-beam system
机译:
使用50 kV HL-800M电子束系统的0.18um光罩制造的化学放大正阻设计
作者:
Tadashi Arai
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji-shi Tokyo
;
Japan
;
Toshio Sakamizu
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji-shi Tokyo
;
Japan
;
Takashi Soga
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji-shi Tokyo
;
Japan
;
Hidetoshi Satoh
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji-shi Tokyo
;
Japan
;
Kohji Katoh
;
Hitachi Chemical Co.
;
Ltd.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Hiroshi Shiraishi
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji Tokyo
;
Japan
;
Morihisa Hoga
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
11.
Etching characteristics of a chromium-nitride hardmask for x-ray mask fabrication
机译:
用于x射线掩模制造的氮化铬硬掩模的蚀刻特性
作者:
Shinji Tsuboi
;
NEC Corp.
;
Tsukuba-shi Ibaraki
;
Japan
;
Miyoshi Seki
;
NEC Corp.
;
Tsukuba-shi Ibaraki
;
Japan
;
Katsumi Suzuki
;
NEC Corp.
;
Tsukuba-shi Ibaraki
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
12.
Evaluation results of a new inspection algorithm
机译:
一种新检查算法的评估结果
作者:
Kanji Takeuchi
;
Fujitsu Ltd.
;
Mie
;
Japan
;
Yutaka Miyahara
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawana-gun Mie
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
13.
Fine-pattern process with negative tone resist
机译:
负型抗蚀剂的精细图案工艺
作者:
Eiichi Hoshino
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Masahiro Uraguchi
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Yuhichi Yamamoto
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Y.Sato
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
K.Minagawa
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
K.Suzuki
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Keiji Watanabe
;
Fujitsu Labs. Ltd.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
14.
Improving the measurement accuracy of pattern width and position of x-ray masks
机译:
提高图案宽度和X射线掩模位置的测量精度
作者:
Shingo Uchiyama
;
NTT System Electronics Labs.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Masatoshi Oda
;
NTT System Electronics Labs.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Miho Sakatani
;
NTT Advanced Technology Corp.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Tadahito Matsuda
;
NTT System Electronics Labs.
;
Atsugi-shi Kanagawa Pref.
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
15.
Large-glass reticle writer: exposure strategy and mask handling
机译:
大型玻璃掩模版写入器:曝光策略和掩模处理
作者:
Christian Ehrlich
;
Leica Microsystems Lithography GmbH
;
Jena
;
Germany
;
J.Gramss
;
Leica Microsystems Lithography GmbH
;
Jena
;
Germany.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
16.
Mask fabrication in the USA
机译:
美国的掩模制造
作者:
Franklin D. Kalk
;
DuPont Photomasks
;
Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
17.
Application of dry etching process on high-end Cr photomasks
机译:
干法刻蚀工艺在高端铬光掩模上的应用
作者:
Author(s): Keun T. Park Dupont Photomasks Inc. Ichon South Korea
;
Kyu Y. Lee Dupont Photomasks Inc. Ichon-Gun Kyunggi South Korea.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
18.
Defect data analysis for reticle inspection
机译:
缺陷数据分析,用于光罩检查
作者:
Ming-Huei Lin
;
Taiwan Mask Corp.
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
Sheng-Chung Kuo
;
Taiwan Mask Corp.
;
Hsinchu
;
Taiwan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
19.
Development of a fast beam-blanking system
机译:
快速消隐系统的开发
作者:
Munehiro Ogasawara
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Hitoshi Sunaoshii
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Ryoichi Yoshikawa
;
Toshiba Machine Co.
;
Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
20.
Mask CD quality assurance specifications for 0.25-um devices with a practical lithography window
机译:
具有实用光刻窗口的0.25um器件的Mask CD质量保证规范
作者:
Takehiko Gunji
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Tetsuya Kitagawa
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Kunihiko Tsuboi
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
21.
100-nm defect detection using an existing image acquistion system
机译:
使用现有图像采集系统进行100 nm缺陷检测
作者:
Anthony Vacca
;
KLA-Tencor Corp.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Benjamin G. Eynon
;
Jr.
;
DuPont Photomasks
;
Inc.
;
Round Rock
;
TX
;
USA
;
Steve Yeomans
;
Micron Technology
;
Inc.
;
Boise
;
ID
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
22.
Pellicle-induced distortions on photomasks
机译:
膜片在光掩模上引起的畸变
作者:
Klaus-Dieter Roeth
;
Leica Microsystems Lithography GmbH
;
Wetzlar
;
Germany
;
Thomas Struck
;
Siemens AG
;
Munchen
;
Germany.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
23.
Printability of backside reticle defects
机译:
背面掩模版缺陷的可印刷性
作者:
William Volk
;
KLA-Tencor Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
James N. Wiley
;
KLA-Tencor Corp.
;
Menlo Park
;
CA
;
USA
;
James A. Reynolds
;
Reynolds Consulting
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
24.
Process optimization for mask fabrication
机译:
掩模制造的工艺优化
作者:
Hideaki Sakurai
;
Toshiba Microelectronics Engineering Lab.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Masamitsu Itoh
;
Toshiba Microelectronics Engineering Lab.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Akitoshi Kumagae
;
Toshiba Microelectronics Engineering Lab.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Hirohito Anze
;
Toshiba Advanced Semiconductor Device Lab.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Takayuki Abe
;
Toshiba Advanced Semiconductor Device Lab.
;
Saiwai-ku Kawasaki-shi
;
Japan
;
Iwao Higashikawa
;
Toshiba Microelectronics Engineering Lab.
;
Kawasaki Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
25.
Requirements of attenuated PSM for 0.18-um gate patterns
机译:
0.18um栅极图案的衰减PSM要求
作者:
Hideaki Hasegawa
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Toru Higashi
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Naoyuki Ishiwata
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Satoru Asai
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagaw
;
Japan
;
Isamu Hanyu
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
26.
Revised SIA road map for mask technology
机译:
经修订的SIA掩模技术路线图
作者:
John Canning
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
27.
Status of x-ray mask development at the IBM Advanced Mask Facility
机译:
IBM Advanced Mask Facility上X射线掩模开发的现状
作者:
Kenneth C. Racette
;
IBM Microelectronics Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
28.
Automatic alternative phase-shift mask CAD layout tool for gate shrinkage of embedded DRAM in logic below 0.18 um
机译:
自动替代相移掩模CAD布局工具,用于以低于0.18 um的逻辑缩小嵌入式DRAM的栅极
作者:
Hidetoshi Ohnuma
;
Sony Corp.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Hiroichi Kawahira
;
Sony Corp.
;
Atsugi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
29.
Fabrication and commercialization of scalpel masks
机译:
手术刀口罩的制造和商业化
作者:
Anthony E. Novembre
;
Lucent Technologies/Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Milton L. Peabody
;
Lucent Technologies/Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Myrtle I. Blakey
;
Lucent Technologies/Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Reginald C. Farrow
;
Lucent Technologies/Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Rich J. Kasica
;
Lucent Technologies/Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
James A. Liddle
;
Lucent Technologies/Bell Labs.
;
Scotch Plains
;
NJ
;
USA
;
Thomas E. Saunders
;
Lucent Technologies/Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Donald M. Tennant
;
Lucent Technologies/Bell Labs.
;
Holmdel
;
NJ
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
30.
Formal specification and verification of hardware designs
机译:
正式规范和硬件设计验证
作者:
S.Ramesh
;
Indian Institute of Technology
;
Powai Mumbai
;
India
;
S.S.S.P Rao
;
Indian Institute of Technology
;
Powai Mumbai
;
India
;
G.Sivakumar
;
Indian Institute of Technology
;
Powai Mumbai
;
India
;
Purandar Bhaduri
;
Tata Infotech Ltd.
;
Bombay
;
India.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
31.
Gray map reference pattern generator of a die-to-database mask inspection system for 256-Mb and 1-Gb DRAMs
机译:
用于256 Mb和1 Gb DRAM的芯片到数据库掩模检查系统的灰度图参考图案生成器
作者:
Hideo Tsuchiya
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Ikuano Isomura
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki Kanagawa
;
Japan
;
Tomohide Watanabe
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Kyoji Yamashita
;
Toshiba Corp.
;
Yokohama
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
32.
High-transmittance rim-type attenuated phase-shift masks for sub-0.2-um hole patterns
机译:
适用于0.2um以下孔图案的高透射率边缘型衰减相移掩模
作者:
Haruo Iwasaki
;
NEC Corp.
;
Kanagawa
;
Japan
;
Keiichi Hoshi
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan
;
Hiroyoshi Tanabe
;
NEC Corp.
;
Sagamihara
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
33.
ICP quartz etch uniformity improvement for phase-shift mask fabrication
机译:
用于相移掩模制造的ICP石英蚀刻均匀性提高
作者:
Chris Constantine
;
Plasma-Therm
;
Inc.
;
St Petersburg
;
FL
;
USA
;
L.Heckerd
;
Plasma-Therm
;
Inc.
;
St. Petersburg
;
FL
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
34.
Impact on mask technology from the viewpoint of DRAM trend
机译:
从DRAM趋势看对掩模技术的影响
作者:
Kuniaki Koyama
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
35.
Logic device trend: impact on mask technology
机译:
逻辑器件趋势:对掩模技术的影响
作者:
Chiang Yang
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
36.
Parameters affecting megasonic power transmittance in the megasonic cleaning process
机译:
影响兆超声清洗过程中兆超声功率传输率的参数
作者:
Yong H. Kim
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kyungki-do Suwon
;
South Korea
;
Jin-Hong Park
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kyungki-Do Suwon
;
South Korea
;
Keumhee H. Lee
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Suwon
;
South Korea
;
Sung-Woon Choi
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kyungki-Do Suwon
;
South Korea
;
Hee-Sun Yoon
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kyungki-Do Suwon
;
South Korea
;
Jung-Min Sohn
;
Samsung Electronics Co.
;
Ltd.
;
Kyungki-Do Suwon
;
South Korea.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
37.
Toward 150-nm defect detection capability
机译:
迈向150纳米缺陷检测能力
作者:
Yair Eran
;
Orbot-Applied Industries
;
Yavne
;
Israel
;
Gad Greenberg
;
Orbot-Applied Industries
;
Yavne
;
Israel
;
Michael M. Har-Zvi
;
Orbot-Applied Industries
;
Yavne
;
Israel.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
38.
Ultrafine mask cleaning technology using ultraviolet irradiation
机译:
使用紫外线照射的超细口罩清洁技术
作者:
Kenji Masui
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Akio Kosaka
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki Kanagawa
;
Japan
;
Hiroishi Fujita
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki Kanagawa
;
Japan
;
Hidehiro Watanabe
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
39.
Use of line-width error detection for quality control in reticle fabrication
机译:
线宽误差检测在光罩制造中用于质量控制的用途
作者:
Yair Eran
;
Orbot-Applied Industries
;
Yavne
;
Israel
;
Gidon Gottlib
;
Orbot-Applied Industries
;
Yavne
;
Israel
;
Gad Greenberg
;
Orbot-Applied Industries
;
Yavne
;
Israel
;
Jeremy Zelenko
;
Orbot-Applied Industries
;
Yavne
;
Israel.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
40.
Current activities in mask metrology at the PTB
机译:
PTB口罩计量学的当前活动
作者:
Wolfgang Habler-Grohne
;
Physikalisch-Technische Bundesanstalt
;
Braunschweig
;
Germany
;
Harald Bosse
;
Physikalisch-Technische Bundesanstalt
;
Braunschweig
;
Germany.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
41.
Development of a high-performance e-beam resist suitable for advanced mask fabrication
机译:
开发适用于先进掩模制造的高性能电子束抗蚀剂
作者:
Kazutaka Tamura
;
Toray Industries
;
Inc.
;
Otsu-shi Shiga
;
Japan
;
H.Niwa
;
Toray Industries
;
Inc.
;
Otsu-shi Shiga
;
Japan
;
S.Kanetsuki
;
Toray Industries
;
Inc.
;
Otsu-shi Shiga
;
Japan
;
M.Asano
;
Toray Industries
;
Inc.
;
Otsu-shi Shiga
;
Japan
;
S.Mitamura
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitawa
;
Japan
;
Daichi Okuno
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Masa-aki Kurihara
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Naoya Hayashi
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
42.
Development of a multi-FPGA netlist partitioner and a general-purpose graph partitioning system
机译:
多FPGA网表分区器和通用图分区系统的开发
作者:
Preeti Gowaikar
;
Indian Institute of Technology
;
Powai Mumbai
;
India
;
Millind Sohoni
;
Indian Institute of Technology
;
Powai Mumbai
;
India
;
M.Chandramouri
;
Indian Institute of Technology
;
Powai Mumbai
;
India
;
Sachin Patkar
;
Indian Institute of Technology
;
Powai Mumbai
;
India.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
43.
Enhanced lithography CoO model: considerations for advanced mask
机译:
增强版光刻CoO模型:高级掩模的注意事项
作者:
Yoshihiro Todokoro
;
Matsushita Electric Industrial Co.
;
Ltd.
;
Moriguchi Osaka
;
Japan
;
Yoshihiro Oda
;
Matsushita Electronics Corp.
;
Minami-ku
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
44.
High-performance and stability reticle writing system HL-800M
机译:
高性能,稳定的分划板书写系统HL-800M
作者:
Yasuhiro Kadowaki
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Ibaraki Tokyo
;
Japan
;
Katsuhiro Kawasaki
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Ibaraki Tokyo
;
Japan
;
Kazui Mizuno
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Ibaraki Tokyo
;
Japan
;
Hidetoshi Satoh
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji-shi Tokyo
;
Japan
;
Morihisa Hoga
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira Tokyo
;
Japan
;
Ken Uryu
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira-shi Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
45.
New detailed CD measurement method by scanning confocal laser microscope
机译:
扫描共聚焦激光显微镜测量CD的新方法
作者:
Takeshi Yamane
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Takashi Hirano
;
Toshiba Corp.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
46.
Present status and technical issues of x-ray lithography
机译:
X射线光刻的现状和技术问题
作者:
Kimiyoshi Deguchi
;
NTT System Electronics Labs.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Jiro Nakamura
;
NTT System Electronics Labs.
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Kazuya Nakanishi
;
NTT System Electronics Labs.
;
Astugi-shi Kanagawa
;
Japan
;
Tadahito Matsuda
;
NTT System Electronics Labs.
;
Atsugi-shi Kanagawa Pref.
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
47.
Reticle defects on optical proximity correction features
机译:
光学邻近校正功能上的光罩缺陷
作者:
Larry S. Zurbrick
;
KLA-Tencor Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
48.
Detection of CD error caused by multipass writing method
机译:
检测多遍写入方法引起的CD错误
作者:
Andre Wang
;
Taiwan Mask Corp.
;
Hsinchu
;
Taiwan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
49.
Development methods for chemical amplification resist
机译:
化学放大抗蚀剂的开发方法
作者:
Hidetaka Saitoh
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira Tokyo
;
Japan
;
Takashi Soga
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kokubunji-shi Tokyo
;
Japan
;
Shinji Kubo
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira Tokyo
;
Japan
;
Syuichi Sanki
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira Tokyo
;
Japan
;
Morihisa Hoga
;
Hitachi
;
Ltd.
;
Kodaira Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
50.
High-performance photomask cleaning process using electrolyzed water
机译:
使用电解水的高性能光掩模清洗工艺
作者:
Yoshikazu Nagamura
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itam-shi Hyogo
;
Japan
;
Hozumi Usui
;
Wacom Electric Co.
;
Osato-gun Saitama
;
Japan
;
Nobuyuki Yoshioka
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami Hyogo
;
Japan
;
H.Morimoto
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Itami-shi Hyogo
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
51.
Possibility of a spin cup method
机译:
旋转杯法的可能性
作者:
Terumasa Tokimitsu
;
Tazmo Co. Ltd.
;
Ibara Okayama
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
52.
Preliminary evaluation results of 895i and iP1700 replacement resist for advanced laser reticle fabrication
机译:
895i和iP1700替代抗蚀剂用于高级激光掩模版制造的初步评估结果
作者:
Keishi Asakawa
;
HOYA Corp.
;
Kitakoma-gun Yamanashi
;
Japan
;
Hideo Kobayashi
;
HOYA Corp.
;
Kitakoma-gun Yamanashi
;
Japan
;
Takao Higuchi
;
HOYA Corp.
;
Kitakoma-gun Yamanashi
;
Japan
;
Yasunori Yokoya
;
HOYA Corp.
;
Kitakoma-gun Yamanashi
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
53.
Subresolution assist feature masks for 0.2-um window pattern formation
机译:
亚分辨率辅助功能蒙版,可形成0.2um的窗口图案
作者:
Tadao Yasuzato
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan
;
Shinji Ishida
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan
;
Hiroyoshi Tanabe
;
NEC Corp.
;
Sagamihara
;
Japan
;
Akihiko Andou
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan
;
Tatuya Kamata
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan
;
Youji Tonooka
;
NEC Corp.
;
Sagamihara-shi Kanagawa
;
Japan
;
Hiroyuki Shigemura
;
NEC Corp.
;
Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《》
|
1998年
54.
Comparison of etching methods for subquarter-micron-rule mask fabrication
机译:
亚微米级规则掩模制造中蚀刻方法的比较
作者:
Tsukasa Abe
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Kamifukuoka-shi Saitama
;
Japan
;
Toshifumi Yokoyama
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Sato Kyoko
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Hiroyuki Miyashita
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Naoya Hayashi
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
55.
High-resolution UV wavelength reticle inspection
机译:
高分辨率紫外波长标线检查
作者:
Mark Merrill
;
KLA-Tencor Corp.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Hector Garcia
;
KLA-Tencor Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Steven J. Schuda
;
KLA-Tencor Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
W.Odisho
;
KLA-Tencor Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
James N. Wiley
;
KLA-Tencor Corp.
;
Menlo Park
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
56.
Mask technology of extreme-ultraviolet lithography
机译:
极紫外光刻掩模技术
作者:
Hiroo Kinoshita
;
Himeji Institute of Technology
;
Himeji-shi Hyogo
;
Japan
;
Takeo Wantanabe
;
Himeji Institute of Technology
;
Himeji-shi Hyogo
;
Japan
;
Akira Ozawa
;
NTT Advanced Technology Corp.
;
Kanagawa
;
Japan
;
Masahito Niibe
;
Himeji Institute of Technology
;
Himeji-shi Hyogo
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
57.
New distortion metrology using reticle coordinate error
机译:
利用掩模版坐标误差的新畸变计量
作者:
Izumi Tsukamoto
;
Canon Inc.
;
Utsunomiya-shi Tochigi
;
Japan
;
Hirohiko Shinonaga
;
Canon Inc.
;
Utsunomiya-shi Tochigi
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
58.
Present status of x-ray lithography
机译:
X射线光刻的现状
作者:
Masaki Yamabe
;
Association of Super-Advanced Electronics Technologie s
;
Atsugi-shi Kanagawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
59.
Application of dry etching to 1-Gb DRAM mask fabrication
机译:
干法蚀刻在1-Gb DRAM掩模制造中的应用
作者:
Author(s): Takashi Inoue NEC Corp. Kanagawa Japan
;
Yoshiki Matsuda NEC Corp. Sagamihara-shi Kanagawa Japan
;
Yoshiyuki Tanaka NEC Corp. Kanagawa Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
60.
Current focused-ion-beam repair strategies for opaque defects and clear defects on advanced phase-shifting masks
机译:
当前的聚焦离子束修复策略,用于高级相移掩模上的不透明缺陷和透明缺陷
作者:
Mark L. Raphaelian
;
Micrion Corp.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
J. David Casey
;
Jr.
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
Andrew F. Doyle
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
David C. Ferranti
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
John C. Morgan
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
61.
Deflection error due to charge-up effect of reticle substrate
机译:
由于标线基板的充电效应而产生的偏转误差
作者:
Junji Hirumi
;
Fujitsu Ltd.
;
Mie
;
Japan
;
Tetsuya Hayashimoto
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki Kanagawa
;
Japan
;
Toshiaki Kawabata
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki Kanagawa
;
Japan
;
Kouji Hosono
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki Kanagawa
;
Japan
;
Eiichi Hoshino
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanagawa
;
Japan
;
Junichi Kai
;
Fujitsu Ltd.
;
Kawasaki-shi Kanawaga
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
62.
Development of a next-generation e-beam lithography system for 1-Gb DRAM masks
机译:
开发用于1-Gb DRAM掩模的下一代电子束光刻系统
作者:
Yasutoshi Nakagawa
;
JEOL Ltd.
;
Akishima-City Tokyo
;
Japan
;
Tadashi Komagata
;
JEOL Ltd.
;
Akishima-shi Tokyo
;
Japan
;
Hitoshi Takemura
;
JEOL Ltd.
;
Akishima
;
Tokyo
;
Japan
;
Nobuo Gotoh
;
JEOL Ltd.
;
Akishima
;
Tokyo
;
Japan
;
Kazumitsu Tanaka
;
JEOL Ltd.
;
Akishima Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
63.
Performance of the ALTA 3500 scanned-laser mask lithography system
机译:
ALTA 3500扫描激光掩模光刻系统的性能
作者:
Peter D. Buck
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Gresham
;
OR
;
USA
;
Alex H. Buxbaum
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
Thomas P. Coleman
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Long Tran
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Beaverton
;
OR
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
64.
Further advances in electron-beam pattern generation technology for 180-nm masks
机译:
用于180 nm掩模的电子束图案生成技术的进一步进步
作者:
Frank E. Abboud
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Charles A. Sauer
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Matthew Vernon
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Los Gatos
;
CA
;
USA
;
Thomas P. Coleman
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Robert L. Dean
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
William Wang
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Richard Prior
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Maiying Lu
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA
;
Suzanne Weaver
;
Etec Systems
;
Inc.
;
Hayward
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
65.
Performance of a chemically amplified positive resist for next-generation photomask fabrication
机译:
化学放大正性抗蚀剂在下一代光掩模制造中的性能
作者:
Masa-aki Kurihara
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Toshikazu Segawa
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Daichi Okuno
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Naoya Hayashi
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitama
;
Japan
;
Hisatake Sano
;
Dai Nippon Printing Co.
;
Ltd.
;
Saitawa
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
66.
Plasma etch of AZ5206/Cr and ZEP7000/Cr for 0.18- to 0.25-um-generation advanced mask fabrication
机译:
等离子刻蚀AZ5206 / Cr和ZEP7000 / Cr,用于0.18至0.25um的先进掩模制造
作者:
Wilman Tsai
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Frederick Chen
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
M.Kamna
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
S.Chegwidden
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Steven M. Labovitz
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Jeff N. Farnsworth
;
Intel Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Giang T. Dao
;
Intel Corp.
;
Fremont
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
67.
Detection of 60-deg phase defects on alternating PSMs
机译:
检测交替PSM上的60度相位缺陷
作者:
Christopher A. Spence
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
David Emery
;
KLA-Tencor Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Larry S. Zurbrick
;
KLA-Tencor Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Durai P. Prakash
;
KLA-Tencor Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
X.Chang
;
KLA-Tencor Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
S.Khanna
;
KLA-Tencor Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Brent Leback
;
KLA-Tencor Corp.
;
Beaverton
;
OR
;
USA
;
E.Tsujimoto
;
KLA-Tencor Corp.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Gregory P. Hughes
;
DuPont RTC
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Baorui Yang
;
DuPont RTC
;
Round Rock
;
TX
;
USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
68.
Development of pellicle for ArF excimer laser
机译:
ArF准分子激光防护膜的开发
作者:
Shigeto Shigematsu
;
Mitsui Chemicals
;
Inc.
;
Chiyoda-ku Tokyo
;
Japan
;
A.Eda
;
Mitsui Chemicals
;
Inc.
;
Hiroshima
;
Japan
;
Hiroaki Nakagawa
;
Mitsui Chemicals
;
Inc.
;
Hiroshima
;
Japan.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
69.
Ion projection lithography
机译:
离子投影光刻
作者:
John Melngailis
;
Univ. of Maryland/College Park
;
College Park
;
MD
;
USA
;
Hans Loschner
;
Ion Microfabrication Systems GmbH
;
College Park
;
MD
;
USA
;
Gerhard Stengl
;
Ion Microfabrication Systems GmbH
;
Vienna
;
Austria
;
Ivan L. Berry
;
Microelectronics Research Lab.
;
Rockville
;
MD
;
USA
;
Alfred A. Mondelli
;
Science Applications International Corp.
;
Vienna
;
VA
;
USA
;
Gerhard Gross
;
Siemens AG
;
Muenchen
;
Germany.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
70.
Designing dual-trench alternating phase-shift masks for 140-nm and smaller features using 248-nm KrF and 193-nm ArF lithography
机译:
使用248 nm KrF和193 nm ArF光刻设计140纳米及更小特征的双沟槽交替相移掩模
作者:
Author(s): John S. Petersen SEMATECH Austin TX USA
;
Robert J. Socha National Semiconductor Corp. Santa Clara CA USA
;
Alex R. Naderi Photronics Inc. Milpitas CA USA
;
Catherine A. Baker Photronics Inc. Milpitas CA USA
;
Syed A. Rizvi Photronics Inc. Milpitas CA USA
;
Douglas Van Den Broeke Photronics Inc. Milpitas CA USA
;
Nishrin Kachwala SEMATECH and Rockwell Semiconductor Systems Austin TX USA
;
Fung Chen MicroUnity Systems Engineering Inc. Sunnyvale CA USA
;
Tom Laidig MicroUnity Systems Engineering Inc. Sunnyvale CA USA
;
Kurt E. Wampler MicroUnity Systems Engineering Inc. Sunnyvale CA USA
;
Roger F. Caldwell MicroUnity Systems Engineering Inc. Sunnyvale CA USA
;
Susumu Takeuchi Toppan Printing Co. Ltd. Kita-Katsushika-gun Saita Japan
;
Yoshiro Yamada Toppan Printing Co. Ltd. Saitama Japan
;
Takashi Senoh Toppan Printing Co. Ltd. Niiza-shi Saitama Japan
;
Martin McCallum SEMATECH and Motorola Austin TX USA.
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
71.
Present status of ArF lithography development and mask technology
机译:
ARF光刻开发和面罩技术的现状
作者:
Hiroaki Morimoto
;
Hiroshi Ohtsuka
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
72.
Modified particle detection method for reticle/mask particle detection system
机译:
掩盖/掩模粒子检测系统的改进粒子检测方法
作者:
Yoshinori Nagai
;
Toyoki Kanzaki
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
73.
Optimization of Zr-Si compound films for attenuated PSM
机译:
Zr-Si复合薄膜的优化用于减毒PSM
作者:
Takashi Haraguchi
;
Tadashi Matsuo
;
Susumu Takeuchi
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
74.
Two-step etching process for small-size pattern
机译:
小尺寸图案的两步蚀刻工艺
作者:
Kenny Yang
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
75.
Optimization of ZEN4100(2)
机译:
ZEN4100的优化(2)
作者:
Noriyuki Mitao
;
Nobunori Abe
;
Masahiko Sugimura
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
76.
High-density plasma dry etch for DUV attenuated phase-shifting masks
机译:
DUV减弱相移掩模的高密度等离子体干蚀刻
作者:
Song Peng
;
William J. Adair
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
77.
Foundry mask shop in Taiwan
机译:
台湾铸造面膜店
作者:
Chue-San Yoo
;
Jia-Jinq Wang
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
78.
Development of a fast beam-blanking system
机译:
开发快速消隐系统
作者:
Munehiro Ogasawara
;
Hitoshi Sunaoshii
;
Ryoichi Yoshikawa
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
79.
Pellicle-induced distortions on photomasks
机译:
薄膜引起的光掩模畸变
作者:
Klaus-Dieter Roeth
;
Thomas Struck
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
80.
Mask CD quality assurance specifications for 0.25-um devices with a practical lithography window
机译:
带有实用光刻窗口的0.25微米设备的掩模CD质量保证规范
作者:
Takehiko Gunji
;
Tetsuya Kitagawa
;
Kunihiko Tsuboi
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
81.
Printability of backside reticle defects
机译:
背面掩盖缺陷的可印刷性
作者:
William Volk
;
James N. Wiley
;
James A. Reynolds
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
82.
100-nm defect detection using an existing image acquistion system
机译:
使用现有图像采集系统100nm缺陷检测
作者:
Anthony Vacca
;
Benjamin G. Eynon
;
Steve Yeomans
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
83.
Process optimization for mask fabrication
机译:
面膜制造的过程优化
作者:
Hideaki Sakurai
;
Masamitsu Itoh
;
Akitoshi Kumagae
;
Hirohito Anze
;
Takayuki Abe
;
Iwao Higashikawa
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
84.
Status of x-ray mask development at the IBM Advanced Mask Facility
机译:
IBM高级面具设施的X射线掩模开发的状态
作者:
Kenneth C. Racette
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
85.
Defect data analysis for reticle inspection
机译:
掩盖检查的缺陷数据分析
作者:
Ming-Huei Lin
;
Sheng-Chung Kuo
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
86.
Requirements of attenuated PSM for 0.18-um gate patterns
机译:
018-UM门模式的减毒PSM的要求
作者:
Hideaki Hasegawa
;
Toru Higashi
;
Naoyuki Ishiwata
;
Satoru Asai
;
Isamu Hanyu
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
87.
Revised SIA road map for mask technology
机译:
修订SIA路线图用于面具技术
作者:
John Canning
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
88.
Ultrafine mask cleaning technology using ultraviolet irradiation
机译:
超细掩模清洁技术使用紫外线辐射
作者:
Kenji Masui
;
Akio Kosaka
;
Hiroishi Fujita
;
Hidehiro Watanabe
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
89.
Formal specification and verification of hardware designs
机译:
硬件设计的正式规范和验证
作者:
S.Ramesh
;
S.S.S.P Rao
;
G.Sivakumar
;
Purandar Bhaduri
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
90.
ICP quartz etch uniformity improvement for phase-shift mask fabrication
机译:
ICP石英蚀刻相移掩模制造的均匀性改进
作者:
Chris Constantine
;
L.Heckerd
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
91.
Fabrication and commercialization of scalpel masks
机译:
手术刀面具的制造和商业化
作者:
Anthony E. Novembre
;
Milton L. Peabody
;
Myrtle I. Blakey
;
Reginald C. Farrow
;
Rich J. Kasica
;
James A. Liddle
;
Thomas E. Saunders
;
Donald M. Tennant
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
92.
High-transmittance rim-type attenuated phase-shift masks for sub-0.2-um hole patterns
机译:
用于子0.2-UM孔图案的高透射率边缘型衰减相移掩模
作者:
Haruo Iwasaki
;
Keiichi Hoshi
;
Hiroyoshi Tanabe
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
93.
Gray map reference pattern generator of a die-to-database mask inspection system for 256-Mb and 1-Gb DRAMs
机译:
灰色地图参考模具到数据库遮罩检查系统的图案发生器,适用于256 MB和1-GB DRAMS
作者:
Hideo Tsuchiya
;
Ikuano Isomura
;
Tomohide Watanabe
;
Kyoji Yamashita
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
94.
Impact on mask technology from the viewpoint of DRAM trend
机译:
从DRAM趋势的角度对掩模技术的影响
作者:
Kuniaki Koyama
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
95.
Toward 150-nm defect detection capability
机译:
朝向150nm缺陷检测能力
作者:
Yair Eran
;
Gad Greenberg
;
Michael M. Har-Zvi
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
96.
Parameters affecting megasonic power transmittance in the megasonic cleaning process
机译:
影响兆音质清洗过程中的兆元动力透射率的参数
作者:
Yong H. Kim
;
Jin-Hong Park
;
Keumhee H. Lee
;
Sung-Woon Choi
;
Hee-Sun Yoon
;
Jung-Min Sohn
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
97.
Automatic alternative phase-shift mask CAD layout tool for gate shrinkage of embedded DRAM in logic below 0.18 um
机译:
自动替代相移掩模CAD布局工具,用于逻辑嵌入式DRAM的栅极收缩低于0.18 um
作者:
Hidetoshi Ohnuma
;
Hiroichi Kawahira
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
98.
Use of line-width error detection for quality control in reticle fabrication
机译:
使用线宽误差检测在掩盖制造中的质量控制
作者:
Yair Eran
;
Gidon Gottlib
;
Gad Greenberg
;
Jeremy Zelenko
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
99.
Logic device trend: impact on mask technology
机译:
逻辑设备趋势:对掩模技术的影响
作者:
Chiang Yang
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
100.
Present status and technical issues of x-ray lithography
机译:
X射线光刻的现状和技术问题
作者:
Kimiyoshi Deguchi
;
Jiro Nakamura
;
Kazuya Nakanishi
;
Tadahito Matsuda
会议名称:
《Conference on photomask and X-Ray mask technology》
|
1998年
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