机译:使用90纳米技术节点的三层(Ta_2O_5)_x /(Al_2O_3)_(1-x)涂层的高透射率衰减相移掩模
机译:衰减相移掩模,用于缓解极端紫外光刻中接触孔图案中的光子散粒噪声效应
机译:使用衰减相移掩模进行极端紫外光刻的随机图案模拟
机译:用于子0.2-UM孔图案的高透射率边缘型衰减相移掩模
机译:图案遮罩和视觉感知:使用通用识别理论评估结构和噪声遮罩的效果。
机译:通过相干干涉图样的远程相干调谐进行定量反射相介观
机译:使用单面掩模对准器的图案背景:应用于 密度匹配的电子空穴双层膜