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【24h】

Lateral GaN JFET Devices on 200 mm Engineered Substrates for Power Switching Applications

机译:用于功率开关应用的200 mm工程衬底上的横向GaN JFET器件

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摘要

Lateral GaN-based p-n junction gated field effect transistor (LJFET) devices have been demonstrated on 200mm engineered substrates. The maximum current density was 200 mA/mm and threshold voltage was -30V. Large gate width devices (40mm) exhibited 800 mA current. The devices have blocking capability exceeding 1.1 kV.
机译:横向GaN基p-n结栅场效应晶体管(LJFET)器件已在200mm工程衬底上得到证明。最大电流密度为200 mA / mm,阈值电压为-30V。大型栅极宽度的设备(40毫米)显示800 mA的电流。这些设备的阻断能力超过1.1 kV。

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