pellicle; photomask; 157-nm lithography; film stress; in-plane distortions; out-of-plane distortions; finite element analysis;
机译:预测用于预生产和生产曝光工具的极紫外光刻掩模版的热机械变形
机译:曝光卡盘过程中极端紫外光刻掩模版中的颗粒诱导变形
机译:157 nm标线的UV清洁的可行性
机译:用于157纳米光刻的掩模相关的改性熔融二氧化硅栓塞的扭曲
机译:157 nm准分子激光与熔融石英,聚四氟乙烯和氟化钙的相互作用。
机译:聚乙烯醇包覆的熔融石英毛细管中的凝胶电泳用于评估修饰的和二级结构的寡核苷酸和多核糖核苷酸的纯度
机译:含氟聚合物抗蚀剂的表征为157-nm光刻
机译:改性熔融石英表面损伤场的热成像研究,以了解损伤增长的潜在机制