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机译:含氟聚合物抗蚀剂的表征为157-nm光刻
Takuya Hagiwara; Shigeo Irie; Toshiro Itani; Yasuhide Kawaguchi; Osamu Yokokoji; Shun-ichi Kodama;
机译:157nm光刻用含氟聚合物的表征
机译:含氟聚合物的157 nm光刻胶的抗性
机译:四氟乙烯基含氟聚合物对157 nm抗蚀剂材料的溶解行为
机译:用于157 nm光刻的TFE /降冰片烯基含氟聚合物抗蚀剂的表征
机译:用于高级光刻的分子抗蚀剂-设计,合成,表征和模拟。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:含氟聚合物的抗蚀剂157-nm光刻。
机译:扫描探针光刻。 1.扫描隧道显微镜诱导的自组装正烷硫醇单层抗蚀剂的光刻。
机译:157 nm光刻胶材料
机译:157-NM光刻技术的抗蚀材料
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