Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc., Tsukuba-shi, Ibaraki 305-8569, Japan;
157-nm lithography; fluoropolymer; tetrafluoroethylene; norbornene; chemically amplified resist; protecting group; photoacid generator; quencher;
机译:157nm光刻用含氟聚合物的表征
机译:含氟聚合物的157 nm光刻胶的抗性
机译:四氟乙烯基含氟聚合物对157 nm抗蚀剂材料的溶解行为
机译:基于单环含氟聚合物的157 nm光刻胶的性能
机译:用于高级光刻的分子抗蚀剂-设计,合成,表征和模拟。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:含氟聚合物抗蚀剂的表征为157-nm光刻
机译:扫描探针光刻。 1.扫描隧道显微镜诱导的自组装正烷硫醇单层抗蚀剂的光刻。