lmec, Kapeldreef 75, B-3001 Heverlee, Belgium;
Umicore, Watertorenstraat 33, B-2250 Olen, Belgium;
K.U.Leuven Research Development, B-3000 Leuven, Belgium;
particle deposition; particle removal; etching; germanium; cleaning;
机译:锗晶片中的颗粒沉积和去除
机译:锗晶片中的颗粒沉积和去除
机译:使用氩气子弹颗粒去除Si晶片上的10 nm污染物颗粒
机译:粒子沉积和从Ge晶片中移除
机译:兆声波能量从硅片去除空间颗粒的实验测量。
机译:具有可调整纳米间隙的晶圆级双层金属纳米粒子的原子层沉积辅助形成用于表面增强拉曼散射
机译:锗晶片中的颗粒沉积和去除