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International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)
International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)
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1.
IMPACT OF PLASMA AND DILUTED HF ON A CoWP MATERIAL
机译:
等离子体和稀释的HF对CoWP材料的影响
作者:
P. Rebiscoul
;
L. Broussous
;
N. Lopez
;
A. Roman
;
R. Kachtouli
;
L.G. Gosset
;
J. Guillan
;
D. Louis
;
G. Passemard
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
SAB;
CoWP;
plasma;
cleaning;
compatibility;
2.
Impact of Re-gasified Water on Megasonic Cleaning
机译:
再气化水对超音速清洁的影响
作者:
Boon Cheng Goh
;
Felicia Goh
;
Christopher Lim
;
Zainab Ismail
;
Mei Sheng Zhou
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
megasonic cleaning;
gas;
cavitation;
3.
Implementation of a system for metal contamination control based on classification criteria
机译:
基于分类标准的金属污染控制系统的实现
作者:
Twan Bearda
;
Gabriela Catana
;
David Hellin
;
Rita Vos
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
metal contamination;
contaminant classification;
contamination control;
4.
How bubbles (can) clean
机译:
气泡如何清洁
作者:
Claus-Dieter Ohl
;
Rory Dijkink
;
Manish Arora
;
Detlef Lohse
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
cavitation;
jet;
flow visualization;
5.
I: Ultra-Shallow Junction Cleaning: Metrology for Evaluating Dopant Loss and Substrate Erosion
机译:
I:超浅结清洁:评估掺杂剂损耗和基板腐蚀的计量
作者:
M. S. Ameen
;
A. K. Srivastava
;
I. L. Berry
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
plasma ashing;
ultra-shallow implants;
dopant loss;
wet cleans;
6.
II: Ultra-shallow junction cleaning: methodologies for process and chemistry optimization
机译:
II:超浅结清洗:工艺和化学优化的方法
作者:
A. K. Srivastava
;
K. Han
;
M. Ameen
;
I. Berry
;
S. Rounds
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
substrate damage;
zero substrate loss;
high dose implant ash;
reactive ion etch;
ashing;
7.
Mechanism and Principles of Post Etch AI Cleaning With Inorganic Acids
机译:
无机酸刻蚀AI清洗的机理和原理
作者:
Steven Verhaverbeke
;
Roman Gouk
;
Jim Papanu
;
Han-Wen Chen
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
Al cleaning;
post etch cleaning;
sulfuric acid;
DSP;
dilute sulfuric peroxide;
8.
In Situ Particle Removal Studies using an Optical Particle Counter
机译:
使用光学粒子计数器进行原位粒子去除研究
作者:
D. Martin Knotter
;
Roy te Brake
;
Michiel Enkelaar
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
particle removal;
diffusion;
surfactant;
9.
Critical Thickness Threshold in HfO_2 layers
机译:
HfO_2层中的临界厚度阈值
作者:
Pascal Besson
;
Virginie Loup
;
Thierry Salvetat
;
Nevine Rochat
;
Sandrine Lhostis
;
Sylvie Favier
;
Karen Dabertrand
;
Vincent Cosnier
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
high k;
HfO_2;
threshold;
thickness;
crystallized;
10.
Galvanic Corrosion of Stacked Metal Gate Electrodes During Cleaning in HF Solutions
机译:
HF溶液清洗过程中堆叠的金属栅电极的电腐蚀
作者:
Sylvain Garaud
;
Rita Vos
;
Denis Shamiryan
;
Vasile Paraschiv
;
Paul Mertens
;
Jan Fransaer
;
Stefan De Gendt
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
galvanic corrosion;
metal gate;
wet cleaning;
hydrofluoric acid;
hardmask removal;
11.
Effect of Wafer Rotation on Photoresist Stripping in Supercritical CO_2
机译:
晶圆旋转对超临界CO_2光刻胶剥离的影响
作者:
Koichiro Saga
;
Hitoshi Kuniyasu
;
Takeshi Hattori
;
K. Saito
;
I. Mizobata
;
T. lwata
;
S. Hirae
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
supercritical CO_2;
photoresist stripping;
wafer rotation;
low-k film;
12.
Elimination of Watermark on Extremely High-Doped Poly-Silicon Surfaces Using HF-Vapor Cleaning
机译:
使用HF蒸气清洗消除高掺杂多晶硅表面的水印
作者:
Kangheon Lee
;
John Ghekiere
;
Joonbum Shim
;
Eric Bergman
;
Gyuhyun Kim
;
Baikil Choi
;
Keejoon Oh
;
Geunmin Choi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
dual poly gate;
tungsten silicide;
single-wafer;
HF vapor;
13.
Mapping of metallic contamination using TXRf
机译:
使用TXRf绘制金属污染图
作者:
A.Danel
;
Y.Borde
;
M.Veillerot
;
N. Cabuil
;
H. Kono
;
M. Yamagami
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
metallic contamination;
silicon wafer;
TXRf;
14.
Evaluation of the plasmaless gaseous etching process
机译:
无等离子体气体蚀刻工艺的评估
作者:
Yoshiya Hagimoto
;
Hajime Ugajin
;
Daisuke Miyakoshi
;
Hayato Iwamoto
;
Yusuke Muraki
;
Takehiko Orii
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
plasmaless gaseous etching;
COR;
STI;
divot;
15.
Effects of Bias, Pressure and Temperature in Plasma Damage of Ultra Low-k Films
机译:
偏压,压力和温度对超低k膜等离子体损伤的影响
作者:
A. M. Urbanowicz
;
A. Humbert
;
G. Mannaert
;
Z. Tokei
;
M. R. Baklanov
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
plasma damage;
cleaning plasmas;
low-k dielectrics;
bias potential;
16.
Germanium surface passivation using ozone gaseous phase
机译:
使用臭氧气相对锗进行表面钝化
作者:
Virginie Loup
;
Pascal Besson
;
Olivier Pollet
;
Eugenie Martinez
;
Emmanuelle Richard
;
Sandrine Lhostis
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
germanium;
surface passivation;
ozone;
17.
Estimation of detrimental impact of new metal candidates in advanced microelectronics
机译:
估算先进微电子学中新金属候选物的有害影响
作者:
Y. Borde
;
A. Danel
;
A. Roche
;
A. Grouillet
;
M. Veillerot
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
metal;
contamination;
silicon;
lifetime;
18.
Single Wafer Hydrophobic Surface Preparation on 300mm by HF vapor
机译:
HF蒸气在300mm上单晶片疏水性表面处理
作者:
T.Salvetat
;
O.Pollet
;
P.Besson
;
N.Rochat
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
surface preparation;
hydrophobic surface;
HF last;
HF vapor;
300mm wafer;
19.
Study of the dynamics of local particle removal efficiencies using localized haze maps
机译:
使用局部雾度图研究局部颗粒去除效率的动力学
作者:
Tom Janssens
;
Frank Holsteyns
;
Karine Kenis
;
Sophia Arnauts
;
Twan Bearda
;
Kurt Wostyn
;
Gavin Simpson
;
Andy Steinbach
;
Paul Mertens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
particle removal efficiency;
localized haze data;
20.
Implementing an In-situ Surface Preparation Prior to Ni Deposition for Ni Salicide Processes
机译:
在镍沉积过程中进行镍沉积之前的原位表面处理
作者:
Kyuhwan Chang
;
Scott Bolton
;
Marc Rossow
;
Rich Gregory
;
Jack Jiang
;
Dharmesh Jawarani
;
Stefan Zollner
;
Dean Denning
;
Jon Cheek
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
nickel silicide;
salicide (or self-aligned silicide);
surface preparation;
wafer cleaning;
phase transformation;
sputter etch;
reactive preclean;
21.
Insights into HF-Last Processes and Particle Performance in a Single Wafer Spin Cleaning Tool
机译:
借助单晶片旋转清洁工具深入了解HF-Last工艺和颗粒性能
作者:
Gim Chen
;
Ismail Kashkoush
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
HF last;
particle contamination;
bare silicon wafer;
single wafer processing;
22.
New Brush Scrubbing Techniques for a Wafer Bevel, Apex and Edge
机译:
晶片斜角,顶点和边缘的新刷洗技术
作者:
Hajime Ugajin
;
Hayato Iwamoto
;
Eiji. Hide
;
Nobuyasu Hiraoka
;
Tsuyoshi Okumura
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
bevel;
edge;
apex;
brush;
scrub;
23.
Novel Full Wafer Inspection Technology for Non-Visual Residue Defects
机译:
用于非视觉残留缺陷的新型全晶圆检测技术
作者:
Robert Bryant
;
Joel Hickson
;
Jeff Hawthorne
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
wafer inspection;
non-visual residue defects;
NVR;
work function;
contact potential difference imaging;
CPDI;
24.
The removal of silica particles from micron wide trenches by megasonic cleaning
机译:
通过超音速清洁去除微米级沟槽中的二氧化硅颗粒
作者:
Kurt Wostyn
;
Vincent Quenette
;
Guy Vereecke
;
Paul W Mertens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
particle removal;
megasonic cleaning;
trench;
patterned wafer;
25.
Wafer Cleaning Using Supercritical CO_2 in Semiconductor and Nanoelectronic Device Fabrication
机译:
在半导体和纳米电子器件制造中使用超临界CO_2进行晶圆清洗
作者:
Koichiro Saga
;
Takeshi Hattori
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
supercritical CO_2;
photoresist stripping;
NEMS;
silicon-dioxide etching;
26.
Marangoni Dryer Integrated High Performance Cleaner for Cu/Low k Post Strip Clean for 45nm Technology Node and Beyond
机译:
Marangoni干燥机集成的高性能清洁剂,用于45nm技术节点及以后的铜/低k柱后剥离清洗
作者:
Jianshe Tang
;
Wei Lu
;
Bo Xie
;
Eli Martinez
;
Fred Li
;
Alex Ko
;
Craig Todd
;
John TC Lee
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
marangoni dryer;
single wafer clean;
etch/ash;
Cu/Low-k;
27.
All-Wet Stripping of FEOL Photoresist Using Mixtures of Sulphuric Acid
机译:
使用硫酸混合物对FEOL光阻剂进行全湿剥离
作者:
Enrico Bellandi
;
Mauro Allesandri
;
Stefan Detterbeck
;
Sally-Ann Henry
;
Leo Archer
;
Thomas Hellweg
;
Michael Kagerer
;
Ladislaus Brilz
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
photoresist;
sulfuric acid;
hydrogen peroxide;
stripping;
post-implant;
post-ashing and double-sided treatment;
28.
A novel surface cleaning for copper interconnection using ammonium decomposed species generated by hot wire
机译:
一种新型的用于铜互连的表面清洁,该清洁使用由热丝产生的铵分解的物种
作者:
Akira lzumi
;
Tomoya Ueno
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
copper;
copper oxide;
copper nitride;
nitridation;
atomic hydrogen;
ammonium;
hot wire;
29.
Aging Phenomena in the Removal of Nano-particles from Si Wafers
机译:
从硅晶片中去除纳米颗粒的老化现象
作者:
G. Vereecke
;
J. Veltens
;
K. Xu
;
A. Eitoku
;
K. Sano
;
S. Arnauts
;
K. Kenis
;
J. Snow
;
C. Vinckier
;
P.W. Mertens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
particle removal;
aging;
megasonic cleaning;
brush scrubbing;
aerosol spraying;
30.
AICu metal line corrosion: a case study
机译:
AICu金属线腐蚀:案例研究
作者:
Francesco Pipia
;
Annamaria Votta
;
Gloria Obetti
;
Enrico Bellandi
;
Mauro Alessandri
;
Thomas Nolan
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
aluminum corrosion;
sidewall polymer;
31.
All Wet Stripping of Implanted Photoresist
机译:
植入光刻胶的所有湿法剥离
作者:
Kurt K. Christenson
;
Jeffery W. Butterbaugh
;
Thomas J. Wagener
;
Nam Pyo Lee
;
Brent Schwab
;
Michael Fussy
;
John Diedrick
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
piranha;
implanted photoresist stripping;
wet stripping;
32.
Acoustic Field Analysis of a T Type Waveguide in Single Wafer Megasonic Cleaning and Its Effect on Particle Removal
机译:
单晶片兆声波清洗中T型波导的声场分析及其对颗粒去除的影响
作者:
Yanglae Lee
;
Euisu Urn
;
Kookjin Kang
;
Hyunse Kim
;
Tae-Gon Kim
;
Sang-Ho Lee
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
megasonic;
single wafer cleaning;
transverse sonic wave;
particle removal;
33.
Effect of an organic inhibitor in high pH chemical rinse on the platen for Cu-CMP
机译:
有机抑制剂在高pH化学漂洗中对Cu-CMP压板的影响
作者:
Sebastien Petitdidier
;
Kyle Bartosh
;
Chantal Trouiller
;
Alexandre Couvrat
;
Jun Liu
;
Mark Zaleski
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
post CMP clean;
Cu-CMP;
inhibitor;
BTA;
TOF-SIMS;
34.
Effect of dopants on the dissolution behavior of silicon substrates in HF-based cleaning solutions
机译:
掺杂剂对基于HF的清洗液中硅衬底溶解行为的影响
作者:
Salima Abu Jeriban
;
Ivette Guiot
;
Luc Bacherius
;
Joris Proost
;
Erik Sleeckx
;
Rita Vos
;
Paul Mertens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
etching;
doped silicon;
post-ion implantation cleaning;
Hf;
35.
Challenges of Single-Wafer Wet Cleaning for Low Temperature Pre-epitaxial Treatment of SiGe
机译:
单晶片湿法清洗对硅锗低温预外延处理的挑战
作者:
K. Sano
;
F.E. Leys
;
G. Dilliway
;
R. Loo
;
P.W. Mertens
;
J. Snow
;
A. Izumi
;
A. Eitoku
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
epi;
Si;
SiGe;
single-wafer cleaning;
HF;
dry;
36.
Surface states and recombination loss on wet-chemically passivated Si studied by Surface Photovoltage (SPV) and Photoluminescence (PL)
机译:
通过表面光电压(SPV)和光致发光(PL)研究湿化学钝化Si的表面态和复合损失
作者:
H. Angermann
;
J. Rappich
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
surface photovoltage;
photoluminescence;
wet-chemical silicon surface passivation;
37.
Etching of Silicon Dioxide with Gas Phase HF and Water: Initiation, Bulk Etching, and Termination
机译:
用气相HF和水蚀刻二氧化硅:引发,本体蚀刻和终止
作者:
Gerardo Montano-Miranda
;
Anthony Muscat
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
surface preparation;
gas phase etching;
HF;
water;
surface characterization;
38.
Ex situ bubble generation, enhancing the particle removal rate for single wafer megasonic cleaning processes
机译:
异位产生气泡,提高了单晶片兆声波清洗工艺的颗粒去除率
作者:
Frank Holsteyns
;
Tom Janssens
;
Sophia Arnauts
;
Wouter Van de Putte
;
Vincent Minsier
;
Johann Brunner
;
Joachim Straka
;
Paul W. Mertens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
megasonic;
cavitation;
bubble generation;
nozzles;
39.
High Dose Implant Stripping and Residue Removal with Sequential Plasma and Vacuum Aerosol Processes
机译:
采用等离子和真空气溶胶工艺的大剂量植入物剥离和残留物去除
作者:
Karen Reinhardt
;
Khalid Makhamreh
;
George Tannous
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
high dose implant strip;
plasma cleaning;
cryoaerosol;
thermophoresis;
40.
Improvement of Contact Clean using Single-wafer Clean process for 90nm and Beyond
机译:
使用90nm及以上的单晶片清洗工艺改善接触清洗
作者:
Jaewoo Nam
;
Andrey Zagrebelny
;
Roc Blumenthal
;
Joy Block
;
Miranda Duray
;
Brian Aegerter
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
contact clean;
90nm and beyond;
single processor;
inorganic;
tungsten exposed;
41.
New FEOL Cleaning Technology for Advanced Devices beyond 45 nm Node
机译:
适用于45 nm以上节点的先进设备的新型FEOL清洁技术
作者:
Hiroshi Tomita
;
Yuji Yamada
;
Hidenobu Nagashima
;
Norio Ishikawa
;
Yumiko Taniguchi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
particle removal;
wet cleaning;
surface charge;
dispersant agent;
ozone water;
42.
Study of Resist Strip Chemistries for Ultra Low-k/Cu Interconnect
机译:
超低k / Cu互连的抗蚀带化学研究
作者:
Han Xu
;
Thibaut David
;
Yin Xu
;
Vlad Tarasov
;
Nicolas Posseme
;
Didier Louis
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
low-k dielectric;
resist strip;
residue clean;
porous low-k;
ultra low-k;
43.
A Study on Water- Mark Defects in Copper/ Low-k Chemical Mechanical Polishing
机译:
铜/低k化学机械抛光中水印缺陷的研究
作者:
Ja-Hyung Han
;
Ja-Eung Koo
;
Kyo-Se Choi
;
Byung-Lyul Park
;
Ju-Hyuck Chung
;
Sang-Rok Hah
;
Sun-Yong Lee
;
Young-Jae Kang
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
Cu/low-k CMP;
post CMP cleaning;
water mark;
contact angle;
44.
A Study of a Single-Wafer Process in Metal Contact Hole Cleaning
机译:
金属接触孔清洗的单晶片工艺研究
作者:
JaeYong Park
;
JongKook Song
;
HanMil Kim
;
HeeKang Cho
;
TaeGyun Kim
;
BongHo Moon
;
EunSu Rho
;
Leo Archer
;
WonHo Cho
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
edge defects;
wet bench;
single-wafer process;
metal contact clean;
flowing defects;
45.
A Study on Germanium as a Contaminant Source in Semiconductor Fabrication Process
机译:
锗在半导体制造工艺中的污染源研究
作者:
Dong Won Hwang
;
Jae Seok Lee
;
Pil Kwon Jun
;
Yang Ku Lee
;
Seung Ki Chae
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
semiconductor fabrication;
SiGe;
crosscontamination;
gate oxide integrity;
46.
A Wet Etching Technique to Reveal Threading Dislocations in Thin Germanium Layers
机译:
一种湿蚀刻技术,用于揭示锗薄层中的螺纹位错
作者:
L. Souriau
;
V. Terzieva
;
M. Meuris
;
M. Caymax
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
germanium;
thin layers;
defects etching;
threading dislocations;
47.
Advanced TXRF Analysis: Background Reduction when Measuring High-k Materials and Mapping Metallic Contamination
机译:
先进的TXRF分析:在测量高k材料和映射金属污染时减少背景
作者:
Chris Sparks
;
Joel Barnett
;
Diane K. Michelson
;
Carolyn Gondran
;
Seung-Chul Song
;
Angela Martinez
;
Hikari Takahara
;
Hiroyuki Murakami
;
Toru Kinashi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
TXRF;
metal gate etch;
high-k dielectric;
contamination mapping;
48.
Development of a New TaN Etchant for Metal Gate
机译:
开发用于金属门的新型TaN蚀刻剂
作者:
MongSup Lee
;
SangYong Kim
;
JiHoon Cha
;
JeongNam Han
;
ImSoo Park
;
KunTack Lee
;
ChangKi Hong
;
HanKu Cho
;
JooTae Moon
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
wet etch process;
TaN;
metal gate;
high-k layer;
49.
Effect of Ozone Supply Methods on PRE in Alkaline Ozone Solutions
机译:
臭氧供应方法对碱性臭氧溶液中PRE的影响
作者:
Seung-Ho Lee
;
Tae-Gon Kim
;
Tae-Young Kwon
;
Jin-Goo Park
;
So-Ik Bae
;
Gun-Ho Lee
;
In-Jung Kim
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
ozone;
ozone supply methods;
additive gases;
alkaline solution;
particle removal;
50.
Confined Chemical Cleaning: A Novel Concept Evaluated for Front End of Line Applications
机译:
密闭化学清洗:针对生产线前端应用评估的新颖概念
作者:
Ingrid Vos
;
Stefan Peeters
;
Rita Verbeeck
;
Werner Boullart
;
Johan Vertommen
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
cleaning;
shallow trench isolation;
gate etch;
contact cleaning;
51.
Copper surface analysis with ToF-SIMS: spectra interpretation and stability issues
机译:
使用ToF-SIMS进行铜表面分析:光谱解释和稳定性问题
作者:
C. Trouiller
;
S. Petitdidier
;
X. Ravanel
;
L. Broussous
;
M. Juhel
;
L.F.Tz. Kwakman
;
C. Wyon
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
ToF-SIMS;
copper;
surface contamination;
52.
Wet Process Developments for Electrical Properties Improvement of 3D MIM Capacitors
机译:
用于改善3D MIM电容器电性能的湿法工艺开发
作者:
C. Richard
;
D. Benoit
;
S. Cremer
;
L. Dubost
;
B. Iteprat
;
M. Vincent
;
E. De-Bock
;
C. Perrot
;
C. Rossato
;
M. Proust
;
S. Guillaumet
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
wet etch;
electrode recess;
3D MIM;
53.
X-ray spectrometry for wafer contamination analysis and speciation as well as for reference-free nanolayer characterization
机译:
X射线光谱法,用于晶圆污染分析和形态分析,以及无参的纳米层表征
作者:
B. Beckhoff
;
R. Fliegauf
;
M. Kolbe
;
M. Mueller
;
B. Pollakowski
;
J. Weser
;
G. Ulm
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
XRF;
TXRF;
GIXRF;
NEXAFS;
contamination analysis;
speciation;
nanolayer characterization;
synchrotron radiation;
54.
The Effect of Various Process Induced Damages on Wet Etching Rate Difference
机译:
各种工艺引起的损伤对湿蚀速率差的影响
作者:
Hyo-Geun Yoon
;
Sang-Hyun Lee
;
Woo-Jin Kim
;
Geun-Min Choi
;
Young-Wok Song
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
cleaning;
surface damage;
wet etching rate;
implantation;
Rp(Projected Range);
55.
Surface Microroughness of Silicon in Wet Process and Its Minimization
机译:
湿法硅表面微粗糙度及其最小化
作者:
Hitoshi Morinaga
;
Kenji Shimaoka
;
Tadahiro Ohmi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
microroughness;
photoinduced oxidation;
photoinduced roughness;
56.
Impact of RF oxygen plasma on thermal oxide etch-rate
机译:
射频氧等离子体对热氧化物刻蚀速率的影响
作者:
Enrico Bellandi
;
Annamaria Votta
;
Francesco Pipia
;
Matteo Ferrerio
;
Cinzia De Marco
;
Simone Alba
;
Mauro Alessandri
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
etch rate profiles;
plasma damage;
resist removal;
57.
Adhesion and Removal of Silica and Ceria Particles on the Wafer Surfaces in STI and Poly Si CMP
机译:
STI和Poly Si CMP中晶片表面上的二氧化硅和二氧化铈颗粒的粘附和去除
作者:
Yi Koan Hong
;
Young-Jae Kang
;
Jin-Goo Park
;
Sang-Yeob Han
;
Seong-Kyu Yun
;
Bo-Un Yoon
;
Chang-Ki Hong
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
adhesion force;
alumina particle;
Cu CMP;
58.
Advanced Metrologies for Cleans Characterization: ARXPS, GIXF and NEXAFS
机译:
用于清洁特性的高级计量:ARXPS,GIXF和NEXAFS
作者:
T. Conard
;
S. List
;
M. Claes
;
B. Beckhoff
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
cleans;
residues;
XPS;
GIXF;
NEXAFS;
59.
Surface Preparation Challenge on Nitrided Gate oxides
机译:
氮化栅氧化物的表面处理挑战
作者:
P.Garnier
;
D.Barge
;
J.Bienacel
;
B.Tavel
;
N.Cabuil
;
D.Levy
;
K.Barla
会议名称:
《》
|
2006年
关键词:
nitrided oxide;
triple gate oxide;
nitrogen concentration profile;
60.
IMPACT OF ORGANIC ACID AND GAS BUBBLING ON COPPER AND COPPER OXIDE ETCH-RATES IN DILUTED HF SOLUTION
机译:
稀HF溶液中有机酸和气体起泡对铜和氧化铜刻蚀速率的影响
作者:
D. Rebiscoul
;
N. Lopez
;
L. Broussous
;
D. Louis
;
G. Passemard
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
opper;
post-etch cleaning;
organic acid;
61.
Effect of Pressure Pulsation on Post-Etch Photoresist Stripping on Low-k Films in Supercritical CO_2
机译:
压力脉动对超临界CO_2中低k膜蚀刻后光刻胶剥离的影响
作者:
H. Kiyose
;
K. Saito
;
I. Mizobata
;
T. iwata
;
S. Hirae
;
K. Saga
;
H. Kuniyasu
;
T. Hattori
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
supercritical CO_2;
BEOL;
photoresist strip;
low-k film;
post-etch;
62.
Effect of SC-1 Treatment in Thermal Wall Oxide on Nanoscale STI Gap-filling by O_3/TEOS CVD
机译:
热壁氧化物中SC-1处理对O_3 / TEOS CVD纳米级STI间隙填充的影响
作者:
Seung-Cheol Lee
;
Choon-Kun Ryu
;
Sang-Wook Park
;
Gyu-An Jin
;
Sang-Deok Kim
;
Ki-Hong Yang
;
Sang-Hyon Kwak
;
Su-Hyun Lim
;
Young-Jun Kim
;
Sun-Mi Park
;
Chul-Sik Jang
;
Sung-Ki Park
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
cleaning;
SC-1;
STI gap-filling;
O_3/TEOS;
63.
Investigation of metallic contamination analysis using vapor phase decomposition - droplet collection - total reflection X-ray fluorescence (VPD-DC-TXRF) for Pt-group elements on silicon wafers
机译:
使用气相分解-液滴收集-全反射X射线荧光(VPD-DC-TXRF)对硅晶片上的Pt组元素进行金属污染分析的研究
作者:
David Hellin
;
Nick Valckx
;
Jens Rip
;
Stefan De Gendt
;
Chris Vinckier
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
VPD-DC;
TXRF;
Pt-group;
outplating;
collection;
droplet residue;
64.
OPTIMIZATION OF A SC CO_2 POST-ETCH CLEANING FOR COPPER INTERCONNECTIONS
机译:
铜互连的SC CO_2蚀刻后清洁的优化
作者:
D. Rebiscoul
;
V. Perrut
;
C. Ventosa
;
M. Assous
;
D. Louis
;
G. Passemard
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
supercritical CO_2;
post-etch cleaning;
copper;
rotation;
chelatant;
65.
Is there gas entrapped on submerged silicon wafers? Visualizing nano-scale bubbles with cavitation
机译:
浸没在硅晶片上的气体有残留吗?空化可视化纳米级气泡
作者:
Bram Borkent
;
Nicolas Bremond
;
Manish Arora
;
Claus-Dieter Ohl
;
Detlef Lohse
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
cavitation;
nanobubbles;
air entrapment;
ultrasonic cleaning;
66.
Low Si recess on cleaning process by dilute HF/SC-1 with megasonic
机译:
用megasonic稀释HF / SC-1在清洗过程中的低Si凹陷
作者:
JiHoon Cha
;
ChangSup Mun
;
DaeHyuk Kang
;
WooGwan Shim
;
KunTack Lee
;
ChangKi Hong
;
HanKu Cho
;
JooTae Moon
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
SC-1;
Cleaning;
HF;
Particle;
Si;
Recess;
Mega-sonic;
67.
Etch Rate Profile Characterization of High-κ Materials
机译:
高κ材料的蚀刻速率分布特征
作者:
Annamaria Votta
;
Enrico Bellandi
;
Rossella Piagge
;
Massimo Caniatti
;
Francesco Pipia
;
Mauro Alessandri
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
etch rate profiles;
high-K materials;
hafnium aluminates;
hafnia;
alumina;
68.
Electrical Impact of Various Arsenic-Residues Cleanings
机译:
各种砷残留清洁剂的电影响
作者:
Y.S. Tan
;
S.P. Chiew
;
Z. Yang
;
Zainab Ismail
;
Felicia Goh
;
Christopher Lim
;
Vincent Sih
;
Ee Ping Yu
;
Goh Boon Cheng
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
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2006年
关键词:
arsenic residues;
pre silicidation clean;
69.
Metal Hard Mask Employed Cu/Low k Film post Ash and Wet Clean Process Optimization and Integration into 65nm Manufacturing Flow
机译:
采用金属硬掩模的Cu / Low k膜过灰和湿法清洁工艺优化并整合到65nm制造流程中
作者:
Miao Chun Lin
;
Mei Qi Wang
;
Joe Lai
;
Ren Huang
;
Cheng Ming Weng
;
J H Liao
;
Jianshe Tang
;
Ching Hwa Weng
;
Wei Lu
;
Han Wen Chen
;
John TC Lee
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
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2006年
关键词:
metal hard mask;
single wafer clean;
etch/ash;
Cu/Low-k;
70.
Modeling of shock wave emission during acoustically-driven cavitation-induced cleaning processes
机译:
声驱动空化引起的清洁过程中冲击波发射的建模
作者:
Vincent Minsier
;
Joris Proost
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
shock wave;
cavitation;
cleaning;
71.
Study of a metal gate and silicon selective 'dry ash only' process for combined extension and halo implanted photo resist
机译:
金属栅和硅选择性“仅干灰”工艺的研究,用于混合扩展和光晕注入光致抗蚀剂
作者:
G. Mannaert
;
M.R. Baklanov
;
D. Goossens
;
J. Vertommen
;
W. Boullart
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
resist strip;
extension implant;
crust layer;
metal gate;
72.
Preparation, Characterization, and Damage-free Processing of Advanced Multiple-Gate FETs
机译:
先进的多栅极FET的制备,表征和无损处理
作者:
Jeffrey M. Lauerhaas
;
Rinn Cleavelin
;
Weize Xiong
;
Koki Mochizuki
;
Kara Sherman
;
Hucheng Lee
;
Brian Clappin
;
Thomas Schulz
;
Klaus Schruefer
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
Multiple-Gate FET;
damage-free processing;
Silicon Fin;
73.
Removal of Nano-Particles by Mixed-Fluid Jet: Evaluation of Cleaning Performance and Comparison with Megasonic
机译:
混合流体射流去除纳米颗粒:清洁性能评估和与Megasonic的比较
作者:
G. Vereecke
;
T. Veltens
;
A. Eitoku
;
K. Sano
;
G. Doumen
;
W. Fyen
;
K. Wostyn
;
J. Snow
;
P.W. Mertens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
particle removal;
damage;
aerosol spraying;
megasonic cleaning;
74.
Photoresist Characterization and Wet Strip after Low-k Dry Etch
机译:
低k干蚀刻后的光刻胶表征和湿剥离
作者:
M. Claes
;
Q.T. Le
;
J. Keldermans
;
E. Kesters
;
M. Lux
;
A. Franquet
;
G. Vereecke
;
P.W. Mertens
;
M.M. Frank
;
R. Carleer
;
P. Adriaensens
;
D. Vanderzande
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
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2006年
关键词:
post-etch photoresist;
low-k;
BEOL;
polymer characterization;
solvents;
megasonic;
75.
Plastic containers contamination by volatile acids : accumulation, release and transfer to Cu-surfaces during wafers storage
机译:
挥发性酸对塑料容器的污染:在晶片存储过程中积累,释放并转移到铜表面
作者:
Herve Fontaine
;
Marc Veillerot
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
FOUP;
polymeric material;
AMC;
outgassing;
cross-contamination;
76.
Study of static electricity in wafer cleaning process
机译:
晶圆清洗过程中的静电研究
作者:
M. Wada
;
T. Sueto
;
H. Takahashi
;
N. Hayashi
;
A. Eitoku
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
static electricity;
wafer cleaning;
plastic material;
silicon wafer;
77.
Peracetic acid as active species in mixtures for selective etching of SiGe/Si layer systems - Aspects of chemistry and analytics
机译:
过乙酸作为混合物中的活性物质,用于选择性刻蚀SiGe / Si层系统-化学和分析学方面
作者:
Mathias Guder
;
B. O. Kolbesen
;
Cecile Delattre
;
C. Fischer
;
H. Schier
;
G.Wagner
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
SiGe;
sSOI;
peracetic acid;
selective etching;
photometry;
iodometric titration;
kinetics;
equilibrium;
78.
Single-Wafer Wet Chemical Oxide Formation for Pre-ALD High-k Deposition on 300 mm Wafer
机译:
在300 mm晶圆上进行ALD前高k沉积的单晶圆湿化学氧化物形成
作者:
K. Sano
;
A. Izumi
;
A. Eitoku
;
J. Snow
;
L. Nyns
;
S. Kubicek
;
R. Singanamalla
;
O. Richard
;
T. Conard
;
R. Vos
;
P.W. Mertens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
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2006年
关键词:
high-k;
ALD;
ozone;
oxide;
interface;
Si110;
single-wafer cleaning;
79.
Interaction forces between oxide and silica-modified terpolymer abrasives and their impact on CMP and post-CMP
机译:
氧化物和二氧化硅改性的三元共聚物磨料之间的相互作用力及其对CMP和CMP后的影响
作者:
Silvia Armini
;
Ruslan Burtovyy
;
Igor Luzinov
;
Caroline M. Whelan
;
Karen Maex
;
Mansour Moinpour
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
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2006年
关键词:
CMP;
colloidal AFM;
pH;
80.
Influence of the process conditions of a polishing rinse after CuCMP
机译:
CuCMP后抛光漂洗工艺条件的影响
作者:
Andrea Filippini
;
Sebastien Petitdidier
;
Chantal Trouiller
;
Alexandre Couvrat
;
Marie-Christine Luche
;
Eric Sabouret
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
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2006年
关键词:
CuCMP;
polishing rinse;
material consumption;
detectivity;
81.
Implications of the Selectiveness of Cu Chelators on Cu~0, Cu(l)O and Cu(ll)O Powders
机译:
Cu螯合剂选择性对Cu〜0,Cu(l)O和Cu(ll)O粉末的影响
作者:
Jennie Macdougall
;
Chris Reid
;
Larry McGhee
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
Cu Oxide;
Cu Cleaning;
Cu Chelators;
82.
The Active Role of Etch Products in Particle Removal by SC-1 Solutions
机译:
蚀刻产品在SC-1解决方案去除颗粒中的积极作用
作者:
Alexander Pfeuffer
;
Wolfgang Bensch
;
Alfred Lechner
;
Harald Okorn-Schmidt
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
silicon nitride;
silica;
SC-1;
etch products;
van-der-Waals forces;
83.
The Dependence of Chemical Mechanical Polishing Residue Removal on Post-Cleaning Treatments
机译:
化学机械抛光残留物去除对清洗后处理的依赖
作者:
Jae-Gon Choi
;
Hyo-Geun Yoon
;
Woo-Jin Kim
;
Geun-Min Choi
;
Young-Wook Song
;
Jin-Goo Park
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
CMP process;
dishing effect;
cleaning;
etching rate;
and defect;
84.
The dynamic aspects of electrochemical reaction cells in selectively inducing defects on silicon surface
机译:
电化学反应池选择性诱导硅表面缺陷的动力学方面
作者:
Lieyi Sheng
;
Johan De Greve
;
Eddy De Backer
;
Philippe Verpoort
;
Jan Ackaert
;
Filip Bauwens
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
spray cleaning;
surface transportation;
failure patterns;
well junction;
built-in potential;
electrochemical cell;
surface potential;
reaction dynamics;
corrosion current;
gate oxide integrity;
85.
Oxidation of Si Surface Utilizing SCCO_2
机译:
利用SCCO_2氧化Si表面
作者:
K. Saito
;
T. Kitajima
;
M. Kohno
;
I. Mizobata
;
T. Iwata
;
S. Hirae
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
supercritical;
CO_2;
oxide;
silicon surface;
XPS;
C-V;
86.
Particle deposition and removal from Ge wafers
机译:
锗晶片中的颗粒沉积和去除
作者:
Sonja Sioncke
;
Marcel Lux
;
Wim Fyen
;
Marc Meuris
;
Paul Mertens
;
Antoon Theuwis
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
particle deposition;
particle removal;
etching;
germanium;
cleaning;
87.
Particle-substrate interaction forces in a non-polar liquid
机译:
非极性液体中的颗粒-底物相互作用力
作者:
Franceses Barbagini
;
Wim Fyen
;
Jan Van Hoeymissen
;
Paul Mertens
;
Jan Fransaer
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
AFM;
colloidal-probe;
particles;
low-polar solvents;
moisture;
electrostatics;
88.
Passivation Studies of Germanium Surfaces
机译:
锗表面的钝化研究
作者:
Jungyup Kim
;
Jim McVittie
;
Krishna Saraswat
;
Yoshio Nishi
会议名称:
《International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces;UCPSS; 20060918-20;20060918-20; Antwerp(BE);Antwerp(BE)》
|
2006年
关键词:
germanium;
cleaning;
passivation;
HF;
HCI;
HBr;
HI;
XPS;
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