Department of Electrical and Electronic Engineering, XJTLU, Suzhou, China;
Department of Electrical and Electronic Engineering, XJTLU, Suzhou, China;
Department of Electrical and Electronic Engineering, XJTLU, Suzhou, China;
Department of Electrical and Electronic Engineering, XJTLU, Suzhou, China;
HEMTs; Aluminum gallium nitride; Wide band gap semiconductors; Simulation; Propagation delay; Gallium nitride; MODFETs;
机译:射频工作期间AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的热电子降解:与GaN缓冲设计的关系
机译:外延层设计控制色散的非钝化GaN / AlGaN / GaN功率高电子迁移率晶体管
机译:大面积工程衬底上厚GaN外延层和AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的电热评估
机译:ALGAN / GAN高电子移动晶体管比较器的设计与评价
机译:常压高电子迁移率晶体管的设计,仿真和制造,具有温度稳定性研究
机译:0.1μmAlGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)工艺的改进大信号模型及其在W波段实用单片微波集成电路(MMIC)设计中的应用
机译:0.1μmAlgan/ GaN高电子迁移率(HEMTS)工艺的改进的大信号模型及其在W频段中实际单片微波集成电路(MMIC)设计中的应用
机译:si,GaN和alGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEmT)晶片的非接触迁移率,载流子密度和薄层电阻测量。