Infineon Technologies AG, Am Campeon 1, 85579 Neubiberg, Germany Technische Universitaet Muenchen, Germany;
rnInfineon Technologies AG, Am Campeon 1, 85579 Neubiberg, Germany;
rnTechnische Universitaet Muenchen, Germany;
机译:使用单能质子和中子辐射源比较6T和8T SRAM IC的软错误率
机译:设计参数对45nm技术下的6T和8T SRAM单元的影响
机译:45 nm技术下的6T,8T和9T decanano SRAM单元的设计与分析
机译:6T和8T SRAM核心细胞的设计空间比较
机译:在16NM技术中使用FinFET和CMOS的8T SRAM单元的设计与性能评估
机译:两种不同垫片设计的不同稠度硅树脂尺寸精度的比较-体外研究
机译:使用单能质子和中子辐射源比较6T和8T SRAM IC的软错误率
机译:点火器与轻型紧凑型点火托卡马克设计空间的比较。