University of Bielefeld, Universitaetsstr. 25, D-33615 Bielefeld, Germany;
机译:通过光电子显微镜对EUVL掩模空白缺陷进行光化检查:检查波长变化的影响
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:EUVL多层掩模坯料光化缺陷检测的新方法:驻波光发射电子显微镜
机译:EUV光电子显微镜的Actinic Euvl面罩空白缺陷检查
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:基于改进的横向剪切干涉仪的数字全息显微镜用于三维视觉检查透明物体上的纳米级缺陷
机译:<标题> euvl掩码1cm2面积的静态缺陷计数统计空白 title>
机译:在EUVL掩模空白的1cm(sup 2)区域内的光化缺陷计数统计