Extreme ultraviolet radiation; Defects; Scattering; Statistics; Inspection; Integrated circuits;
机译:通过光电子显微镜对EUVL掩模空白缺陷进行光化检查:检查波长变化的影响
机译:EUVL多层掩模坯料光化缺陷检测的新方法:驻波光发射电子显微镜
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:EUVL掩模坯料的本机缺陷中的“仅光化”缺陷,通过可见光检测几乎无法检测到
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:调查的计数水平与图像质量之间的权衡使用模拟图像心肌灌注显像:统计噪声的对象的影响和变率对缺陷检测能力
机译:<标题> euvl掩码1cm2面积的静态缺陷计数统计空白 title>