机译:EUVL多层掩模坯料光化缺陷检测的新方法:驻波光发射电子显微镜
Fakultaet fuer Physik, Universitaet Bielefeld, Postfach 10 01 31, 33501 Bielefeld, Germany;
EUV lithography; actinic defect inspection; photoemission electron microscopy; multilayer mask blank;
机译:通过光电子显微镜对EUVL掩模空白缺陷进行光化检查:检查波长变化的影响
机译:光电发射显微技术检测极紫外光刻多层掩模板的高分辨率光化缺陷
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:通过EUV光电子显微镜检查光化性EUVL掩模空白缺陷
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:用于超快电子显微镜的光发射源和光束消隐器
机译:<标题> euvl掩码1cm2面积的静态缺陷计数统计空白 title>
机译:在EUVL掩模空白的1cm(sup 2)区域内的光化缺陷计数统计