首页> 外文会议>Electron Devices and Solid- State Circuits, 2007 IEEE Conference on >AlGaN/GaN metal-oxide-semiconductor high electron mobility transistors using directly grown oxide layer
【24h】

AlGaN/GaN metal-oxide-semiconductor high electron mobility transistors using directly grown oxide layer

机译:使用直接生长的氧化物层的AlGaN / GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管

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摘要

N as the insulation film of the AlGaN/GaN metal-oxide-semiconductor high electron mobility transistors (MOS-HEMTs). The gate leakage curr
机译:N作为AlGaN / GaN金属氧化物半导体高电子迁移率晶体管(MOS-HEMT)的绝缘膜。栅极泄漏电流

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