Tokyo Electron Kyushu Ltd, Tsukure, Kikuyou-machi, Kikuchi-gun, Kumamoto, Japan, 869-1197;
机译:受保护单元去质子化效率对11nm极紫外光刻化学放大抗蚀剂工艺中线边缘粗糙度和随机缺陷产生的影响
机译:分子量和保护比对极端紫外光刻化学放大抗蚀剂工艺中线边缘粗糙度和随机缺陷产生的影响
机译:随机缺陷产生对酸放大的量子效率和有效化学反应半径的影响,该化学反应使用极端紫外光刻技术进行化学放大的抗蚀剂工艺进行脱保护
机译:用于电子束光刻的化学放大抗蚀剂中酸生成过程的基本方面
机译:用于下一代光刻的新型化学放大抗蚀剂的开发和高级表征
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:EB和X射线盐化学扩增抗蚀剂 - 质子产生机制的辐射化学。