Semiconductor RD, Samsung Electronics Co. Ltd., San#24, Nongseo-Ri, Giheung-Eup, Yongin-City, Gyeonggi-Do, Korea 449-711;
resist thermal flow process; small space patterning; RELACS; SAFIER;
机译:ArF光刻法对等离子聚合物薄膜进行纳米构图:聚合物结构对构图性能的影响
机译:使用193 nm光刻技术对80 nm以下的接触孔和沟槽进行图案化的最有效替代方法
机译:生物师:精确蛋白质光刻(P 3 sup> 3 ):使用丝素蛋白轻链为抗蚀剂的高性能生物师(adv。sci。9/2017)
机译:光刻-光刻-蚀刻(LFLE),可进行双晶片流涂/显影工艺,并进行CD固化烘烤,以进行200wph以上的浸入式ArF光刻双图案化
机译:通过非消声环境中的测量数据来检索自由空间辐射图。
机译:芘与聚(酯 - 酰亚胺)的单位结合掺入长间隔单元:从分形模型预测NMR共振模式
机译:用于在