SOKUDO Co., Ltd., 480-1 Takamiya-cho, Hikone-shi, Shiga-ken, 522-0292, Japan;
SOKUDO USA, LLC, assignee at IMEC, Kapeldreef 75, Leuven, B-3001, Belgium;
double patterning; pitch splitting; negative develop; CD uniformity tuning; freeze coat; coat develop track;
机译:面向32 nm节点ArF浸没光刻的双图案化材料和工艺的开发
机译:与晶圆处理,光学邻近校正和物理设计流程的双重图案交互
机译:锂冻结 - 蚀刻(LFLE),可实现双晶片流涂层/开发过程,冻结CD调谐烘烤> 200WPH浸没ARF光刻双图案
机译:用于双图案化朝向32nm节点ARF浸入光刻的材料和工艺的开发