テクスチャ化単結晶Si基板上へのスピンコート法による酸化亜鉛反射防止膜の形成に関する研究

摘要

当研究室では真空装置を用いず低コストかつ簡易に成膜できるスピンコート法によるZnO反射防止膜の成膜を試みている。昨年度までは 2－エチルヘキサン酸亜鉛を主成分とした有機酸塩溶液(SYM-ZN20、高純度化学)を使用していたが、焼成時に膜の一部が蒸発する問題があった。今回、緻密化のため低分子のカルボン酸塩である酢酸亜鉛からなるゾルゲル溶液(Zn-05A、高純度化学)を使用して成膜し、光学特性の評価及び電気的特性の評価を行った。