首页> 中国专利> 一种铜基织构薄膜衬底上制备石墨烯单晶晶圆的方法

一种铜基织构薄膜衬底上制备石墨烯单晶晶圆的方法

摘要

本发明提供一种铜基织构薄膜衬底上制备石墨烯单晶晶圆的方法,包括以下步骤:S1:提供一种铜基织构薄膜衬底,将所述铜基织构薄膜衬底置于化学气相沉积系统中进行退火处理;以及S2:通入气态碳源,在所述铜基织构薄膜衬底表面外延生长石墨烯单晶晶圆。根据本发明提供的一种铜基织构薄膜衬底上制备石墨烯单晶晶圆的方法,解决了单晶衬底外延生长单晶石墨烯晶圆带来的高昂成本问题,有利于石墨烯单晶晶圆的规模化应用,对实现石墨烯在微电子领域中的广泛应用有着重要的意义。

著录项

  • 公开/公告号CN111705359A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010620665.8

  • 申请日2020-06-30

  • 分类号C30B25/18(20060101);C30B29/02(20060101);C23C14/35(20060101);C23C14/18(20060101);

  • 代理机构31002 上海智信专利代理有限公司;

  • 代理人余永莉

  • 地址 200050 上海市长宁区长宁路865号

  • 入库时间 2023-06-19 08:23:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-05

    授权

    发明专利权授予

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号