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SiC MESFET and MMIC Technology Transition to Production

机译:SiC MESFET和MMIC技术过渡到生产

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摘要

Significant progress has been made in the development of SiC MESFETs and MMIC power amplifiers manufactured on 3-inch high purity semi-insulating (HPSI) 4H-SiC substrates. MESFETs operating over 5000 at a T_J =140 ℃ with no degradation are presented. Over two thousand high power SiC MMIC amplifiers have been fabricated with excellent yield and repeatability using our released second generation MMIC foundry process.
机译:在3英寸高纯度半绝缘(HPSI)4H-SiC衬底上制造的SiC MESFET和MMIC功率放大器的开发已经取得了重大进展。提出了在T_J = 140℃下工作超过5000次而没有退化的MESFET。使用我们发布的第二代MMIC铸造工艺,已经以优异的良率和可重复性制造了超过2000种高功率SiC MMIC放大器。

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