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微孔深通道列阵的关键技术及其应用

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介绍了国内外关于微孔深通道列阵的研究工作进展,给出了初步实验结果,指出了传统工艺中从未遇到的新现象和新问题,提出了解决问题的初步设想,最后展望了微孔深通道绝缘基体的应用前景.

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来源
《第五届全国微米/纳米技术学术会议》|2001年|55-5769|共4页
会议地点重庆
作者
田景全; 但唐仁; 李野; 富丽晨; 姜德龙; 卢耀华; 端木庆铎;
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作者单位

国家自然科学基金委员会;

科技部;

解放军总装备部;

清华大学;

重庆大学;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类制造工艺;半导体器件制造工艺及设备;
关键词
微通道列阵; 感应耦合等离子体; 高长径比; 微加工技术; 刻蚀实验;

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