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吴小山; 蔡宏灵; 谭伟石; 翟章印; 吴忠华; 贾全杰; 郑鸿祥; 蒋树声;
中国物理学会;
同步辐射高分辨衍射; 低温缓冲层; 生长温度; 掠入射表面衍射; 原子力显微镜; 电子显微镜;
机译:气源MBE在Si(110)衬底上生长的SiGe /梯度缓冲结构的晶格结构的生长温度依赖性
机译:拉伸应变Si层对在弛豫的SiGe / Si(001)缓冲层上生长的Ge(Si)自组装岛的光致发光的影响
机译:应力硅层对在弛豫的SiGe / Si(001)缓冲层上生长的Ge(Si)自形成岛的光致发光的影响
机译:应变 - Si层厚度对薄缓冲层中脱位分布和SiGe弛豫的影响 - Si / SiGe异质结构
机译:Si和SiGe / Si异质结构在热壁管状低压化学气相沉积系统中的选择性外延生长。
机译:通过自组装的PtSe2缓冲层在SiO2 / Si上可扩展外延生长WSe2薄膜
机译:在siGe缓冲层上生长的应变硅的结构表征
机译:使用siGe缓冲层在si衬底上生长的单结InGap / Gaas太阳能电池
机译:具有外延稀土氧化物中间层的植入物退火缓冲层/应变松弛缓冲层上的低缺陷松弛SiGe /应变Si结构及其制造方法
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