薄膜的生长、结构和外延属于《中国图书分类法》中的五级类目,该分类相关的期刊文献有3175篇,会议文献有428篇,学位文献有1324篇等,薄膜的生长、结构和外延的主要作者有汪建华、李言荣、杨宇,薄膜的生长、结构和外延的主要机构有中国科学院、吉林大学、中国科学院研究生院等。
统计的文献类型来源于 期刊论文、 学位论文、 会议论文
1.[期刊]
摘要: 目的提出在第一壁材料(钨穿管部件)表面沉积金刚石薄膜,并系统研究金刚石薄膜厚度对应力的影响。方法采用数值模拟和实验表征方法。利用ANSYS workbench...
2.[期刊]
摘要: 共价有机骨架(COFs)材料是一类新型的有机聚合物,由有机分子单体通过共价键聚合而成.COFs具有高孔隙率、高比表面积、孔结构可调等优点,是分离膜材料的理想选...
3.[期刊]
摘要: 正负电子对撞实验Belle和BABAR通过双光子过程γγ→ωJ/ψ和B介子衰变过程B→ΚωJ/ψ先后观测到了类粲偶素粒子X(3915)并确定了其作为S波共振态...
4.[期刊]
摘要: 通过金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法,在6英寸硅(111)衬底上生长了出制作高电子迁移率晶体管(High Electron Mobility Trans...
5.[期刊]
摘要: 文章以硒硫化钼/碲硒化钨异质双层结构为研究对象,采用基于密度泛函理论(density functional theory,DFT)的第一性原理计算方法,研究界...
6.[期刊]
扩展Su-Schrieffer-Heeger模型在周期性边界条件下的相变
摘要: 文章计算了含有三种跃迁项(最近邻(NN)、次近邻(NNN)、次次近邻(NNNN)跃迁项)的扩展Su-Schrieffer-Heeger(SSH)模型(模型ⅰ)...
7.[期刊]
摘要: 利用直流磁控溅射法在Si(111)衬底上制备α-Hf薄膜,通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、紫外可见分光光度计(UV-Vis)以及霍尔仪等仪器进行测试分析,表...
8.[期刊]
摘要: 金属材料薄膜的光学常数会随膜层厚度发生变化,从而导致薄膜的光谱特性也发生变化。在制备工艺中,不论是热蒸发工艺还是溅射工艺,Ni80Cr20(简称镍铬)薄膜在较...
9.[期刊]
摘要: 为实现通过反应磁控溅射功率调控CrN涂层的机械和耐腐蚀行为,研究了溅射功率对CrN涂层化学成分、微观结构、机械性能及耐腐蚀性能的影响.结果表明,随着溅射功率的...
10.[期刊]
摘要: 本文通过从几十微米到几埃的多尺度表征展示了多弧离子镀制备铬涂层的详细结构.经XRD,SEM,FIB,TEM和HRTEM表征,结果显示该涂层是一种多重结构,包括...
11.[期刊]
摘要: 采用溶胶-凝胶法(Sol-Gel),分别以乙酸锌(Zn(CH_(3)COO)_(2)H_(2)O)、钛酸酊酯(Ti(OC_(4)H9)_(4))为锌源和钛源,...
12.[期刊]
摘要: 利用溶胶-凝胶法(Sol-Gel)制备ZnO、TiO_(2)多层复合薄膜.测试手段采用X-射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计...
13.[期刊]
摘要: 为了实现大面积、高质量二硫化钨(WS_(2))单层膜的可控制备,对双功能钨源制备硫化钨单层膜的机理进行了研究。通过两步化学气相沉积(chemical vapo...
14.[期刊]
摘要: 利用磁控溅射技术在碳纤维表面沉积铜膜制备了高效的电磁屏蔽材料,并通过调整磁控溅射时间和碳纤维单向布铺层层数,分析了磁控溅射改性方式和铺层层数对碳纤维织物及其复...
15.[期刊]
氧分压对脉冲激光沉积β-Ga_(2)O_(3−δ)薄膜光学性能的影响
摘要: 在不同氧分压下,用脉冲激光沉积法在c-蓝宝石衬底上制备了高质量β-Ga_(2)O_(3−δ)薄膜。通过X-射线衍射、远红外反射光谱、X-射线光电子能谱和紫外-...
16.[期刊]
摘要: 目的提高新疆天文台南山观测基地ZZS1800-1/G真空镀膜机的膜厚均匀性指标。方法通过建立旋转行星夹具系统的膜厚分布模型,利用高精度数值计算,基于ZZS18...
17.[期刊]
摘要: 本文利用脉冲激光沉积技术在LaAlO;(001)衬底上生长了单晶锐钛矿和双相TiO_(2)薄膜,并利用X射线衍射和透射电子显微术对薄膜的显微结构进行了系统表征...
18.[期刊]
氧气流量对于磁过滤阴极真空弧法制备ZrO_(2)薄膜特性的影响
摘要: ZrO_(2)薄膜具有高硬度、高耐磨性等优良特性,在诸多领域具有广泛的应用前景.高品质ZrO_(2)薄膜的制备一直是科学家们研究的一个重点和热点问题.本文利用...
19.[期刊]
SiN_(x)介质薄膜制备及其对GaN表面金刚石形核生长的影响
摘要: SiN_(x)作为GaN和金刚石异质结构的中间层,不仅是下层GaN材料的保护层,也是上层金刚石的形核生长层,因此SiN_(x)介质薄膜对于GaN表面合成高质量...
20.[期刊]
摘要: X射线多层膜是同步辐射与自由电子激光、天文观测、等离子体诊断等大科学装置和实验室分析仪器的重要光学元件,能高效率反射X射线并实现单色和偏振化等调控。本课题组在...
1.[会议]
摘要: 本文根据扩散理论,建立了以“基本微观过程”为机理的新三维模型,对存在表面活化剂时薄膜初期生长过程中原子跨层扩散的微观过程进行KlNETlC MONTE CAR...
2.[会议]
摘要: 本文采用射频分子束外延(RF-MBE)方法生长了氮化铝薄膜,并定量表征了其缺陷情况。结果表明,保持富Al条件,并通过适当提高生长温度来促进材料结晶,有利于抑制...
3.[会议]
摘要: 利用自主研制的45°单弯曲阴极电弧沉积系统,通过改变Ar流量(2,5以及10ml/min),在p型(100)硅基底上制备了四面体非晶碳膜。借助表面轮廓仪测定薄...
4.[会议]
基体温度对中频脉冲非平衡磁控溅射技术沉积类金刚石薄膜结构与性能的影响
摘要: 利用中频脉冲非平衡磁控溅射技术在不同的基体温度下制备了类金刚石(DIJC)薄膜,采用Raman光谱、X射线光电子能谱(XPS)、纳米压痕测试仪、椭偏仪对所制备...
5.[会议]
摘要: 利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了以不同厚度的Bi做底层的FePt薄膜,然后经不同温度真空热处理,得到L10有序结构的FePt薄膜;同时,系统地研究了退火...
6.[会议]
摘要: 光学显示仪器前的镜片需要通过镀膜来对特定波长的波段形成高反射,国内绝大多数的光学显示镜片还是玻璃,本文以PC镜片作为基底,采用真空镀膜技术,尝试在碳酸聚酯(P...
7.[会议]
摘要: 通过磁控溅射的方法,制备了不同Ar 气压以及不同膜厚的FePt 薄膜。利用透射电镜(TEM)研究了溅射气压和膜厚对薄膜形貌的影响。利用振动样品磁强计(VSM)...
8.[会议]
摘要: 为了研究非蒸散型吸气薄膜的微观结构和吸气性能之间的关系,首次运用射频磁控溅射法制备出 Zr-Co-RE 系的非蒸散型吸气薄膜,靶材采用Zr-Co-RE 合金靶...
9.[会议]
摘要: 为了改善BiFeO3(BFO)基薄膜的铁电、磁性和磁电耦合等性能,采用化学溶液沉积(CSD)方法,在低磁场(O-1T)下制备了BFO基薄膜,包括Y、Gd掺杂的...
10.[会议]
摘要: 采用修正截断半径的第二代Brenner势,利用分子动力学方法,系统研究了非晶四面体碳(ta-C)薄膜沉积过程中热钉微区温度、应力与结构之间的关系.通过跟踪沉积...
11.[会议]
摘要: 本文用磁控溅射的方法在硅衬底上成功的制备了二氧化钛薄膜, 通过改变薄膜沉积过程中氧气含量、溅射时间、溅射压强、衬底温度等溅射参数,制备了一系列薄膜样品, 得到...
12.[会议]
摘要: 采用直流磁控溅射法在室温玻璃基片上制备出了掺硅氧化锌(ZnO:Si) 透明导电薄膜。研究了溅射功率对 ZnO:Si薄膜结构、形貌、光学及电学性能的影响。实验结...
13.[会议]
摘要: 以二水乙酸锌为原料,乙二醇甲醚和无水乙醇为溶剂,乙醇胺为稳定剂,六水合氯化铝为掺杂剂合成AZO 前驱液,采用自制的液位沉降装置在玻璃衬底上制备AZO 薄膜。对...
14.[会议]
摘要: 以硝酸锌为原料,CTAB和硝酸钾为电沉积添加剂,以导电石墨板为对电极,采用方波电位沉积的方法在氧化锡铟(ITO) 导电玻璃基底上制备出透明的ZnO 薄膜。采用...
15.[会议]
摘要: 本文基于原子层沉积(ALD)HfO2高K材料,通过对脉冲时间和腔体气压等实验参数的调控,实现了气相反应模式、准ALD生长模式和ALD生长模式间的转变控制,得出...
16.[会议]
摘要: 非晶硅薄膜由于其光吸收系数高、原材料来源广泛、制备成本低以及易于大规模生产等优点,被认为是当前最重要的光伏材料之一。本研究采用射频磁控溅射(RF-MS)法在不...
17.[会议]
摘要: 为提高多层膜的激光-X光转换效率,以及辐射的均匀性和对称性,需要严格控制薄膜中的氧含量,并要求表面光洁、界面清晰、厚度一致性好。本研究中,采用本底真空4.5×...
18.[会议]
摘要: 钪Sc氢化物具有极低的离解平衡压,在高温储氢方面具有极为明显的优势。为了更好地指导后期吸氘实验的进行,有必要详细地研究镀膜过程及工艺参数对Sc膜的影响。在众多...
19.[会议]
摘要: 本研究采用真空热蒸发制备Be薄膜对利用磁控溅射制备Be/Cu靶丸进行了前期研究,采用不同的工艺参数制备Be薄膜,研究了不同基底材料、加热温度、加热时间、Be用...
20.[会议]
摘要: 本文主要利用现有的多辊轧机系统对厚度为100μm左右的Be板原料进行了冷轧和热处理工艺研究。轧制过程中研究了工作辊材质、直径对Be薄膜轧制效率、产品质量等方面...
1.[学位]
摘要: 首先,利用非平衡磁控溅射技术在钛合金表面制备了不同过渡层/类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)薄膜,研究了过渡层对DLC薄膜结构和性能的...
2.[学位]
摘要: 首先,利用非平衡磁控溅射技术在钛合金表面制备了不同过渡层/类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)薄膜,研究了过渡层对DLC薄膜结构和性能的...
3.[学位]
摘要: 石墨烯是一种由碳原子以sp2杂化方式形成的六角形蜂窝状平面薄膜,是一种只有单原子层厚度的二维材料。由于它具有许多优异的性能,如高透光率,高的载流子迁移率和高导...
4.[学位]
摘要: 受摩尔定律的影响,集成电路的集成度越来越高,集成电路中的最小单元MOSFET器件尺寸不断缩小,导致传统的栅介质SiO2层减小到原子尺寸,随之带来的是器件漏电流...
5.[学位]
摘要: ZnO是具有3.37eV能隙的宽带隙半导体,由于其在电子、光子和光学及生物等领域的出色表现,可广泛应用于各类高科技领域。为了制备不同尺寸,晶体结构,晶形和颗粒...
6.[学位]
摘要: 钙钛矿结构的过渡金属氧化物因其丰富的材料体系、简单的晶格结构、新奇的物理性质而受到学者们的广泛关注。这类氧化物的低维结构,如表面、界面等,也表现出了异于体相的...
7.[学位]
摘要: 近二十年来,硅基稀土掺杂发光材料及器件得到了广泛的研究。作为一种常见的宽禁带氧化物半导体材料,TiO2已被证明是一种较为理想的稀土发光基质材料。近年来,我们研...
8.[学位]
钙钛矿铁电纳米片诱导的P(VDF-TrFE)薄膜的取向生长、微结构及其性能研究
摘要: PVDF及其共聚物P(VDF-TrFE)(简称PVTF)是一种典型的有机铁电材料,因其具有优异的铁电、介电和压电等物理特性,广泛应用于柔性换能器、红外探测器、...
9.[学位]
摘要: 聚酰胺复合膜是最近常用的一种压力驱动膜,是近年国际上发展较快的膜品种之一。聚酰胺复合膜由于在低压下具有较高的脱盐率和水通量,因此日益受到人们的重视,成为国内外...
10.[学位]
TiO2:M(M=Nb,Ta)薄膜的溶胶-凝胶法制备与光电性能研究
摘要: 透明导电氧化物薄膜(TCOs)应用领域广泛,TiO2薄膜作为一种新型的TCOs材料受到了广泛的关注和深入的研究。TiO2需要通过离子掺杂对光电性能进行改良,才...
11.[学位]
摘要: 磁电耦合效应在能量转换、传感信号和监测磁(电)场方面有巨大应用前景,由于同时具备铁磁性和铁电性,多铁材料可以用于多态存储器的制备,从而提高了信息的存储率节省存...
12.[学位]
摘要: β-Ga2O3是一种新型宽禁带氧化物半导体材料,禁带宽度大约为4.9eV,具有良好的化学和热稳定性,在紫外探测器、功率器件等领域应用前景广阔。由于蓝宝石与氧化...
13.[学位]
摘要: 以SiC和GaN为代表的第三代半导体材料具有禁带宽度大、击穿电场高和热导率高等优越的特性,在大功率器件方面广泛应用。相比较而言,β-Ga2O3半导体材料具有更...
14.[学位]
摘要: 近年来可穿戴健康设备的出现和普及,不仅对于半导体器件的面积、功耗、可靠性等参数提出了越来越高要求,而且对于传感器的功能性也提出了越来越丰富的需求。Ⅲ-Ⅴ族氮化...
15.[学位]
摘要: 流延成型是聚合物薄膜重要成型工艺方法,该工艺过程影响因素多,控制难度大。本文针对聚合物薄膜流延成型工艺进行系统性分析,建立了描述挤出、流延、换热各工艺过程的数...
16.[学位]
摘要: 透明氧化物半导体材料由于具有优良的光电特性而受到人们的普遍关注,并在太阳能电池、平面显示、透明薄膜晶体管、探测器、发光二极管和激光器等许多领域有着广阔的应用前...
17.[学位]
摘要: 有机铅碘钙钛矿材料(如CH3NH3PbI3,MAPbI3和NH2CH=NH2PbI3,FAPbI3)具有合适的带隙、低廉的成本,且可溶液法制备等优势,引起了人...
18.[学位]
摘要: 本研究把磁性基团BiFeO3、YFeO3或BiFe0.5Co0.5O3插入到层状钙钛矿型铁电体 Bi4Ti3O12基质中,以期合成室温单相磁电多铁性材料。用溶...