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SiGe缓冲层对β-SiC(n)/c-Si(p)异质结特性的影响

         

摘要

SiC/Si的界面特性严重影响着SiC/Si异质结的电学特性及光学特性.在β-SiC(n)/c-Si(p)异质结中引入SiGe缓冲层,构造了Al/β-SiC(n)/SiGe/c-Si(p)/Al典型的三明治异质结结构.对带有和不带SiGe缓冲层的β-SiC(n)/c-Si(p)异质结的界面SEM图像,正反向I-V特性曲线及QE作了对比研究,理论和实验均表明,SiGe缓冲层的引入可以有效地改善β-SiC(n)/c-Si(p)异质结的界面特性,减少界面缺陷,从而提高异质结的反向击穿电压及整流比,展宽异质结光谱响应范围,提高量子效率QE,且使QE的峰值点发生明显红移.

著录项

  • 来源
    《兰州交通大学学报》 |2008年第4期|141-144|共4页
  • 作者单位

    兰州交通大学,电子与信息工程学院,甘肃,兰州,730070;

    兰州大学,物理科学与技术学院,甘肃,兰州,730000;

    兰州大学,物理科学与技术学院,甘肃,兰州,730000;

    兰州交通大学,自动化与电气工程学院,甘肃,兰州,730070;

    兰州交通大学,电子与信息工程学院,甘肃,兰州,730070;

    兰州交通大学,电子与信息工程学院,甘肃,兰州,730070;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 晶体管:按作用分;
  • 关键词

    异质结; SiGe缓冲层; SEM; QE;

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