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OPTICAL EMISSION SPECTROSCOPY TO DETERMINE ETCH COMPLETION OF INDIUM TIN OXIDE

机译:光学发射光谱法确定氧化铟锡的刻蚀完成。

摘要

The indium stannic oxide is pickled by a plasma containing CH3 gas. The characteristic intensity of at least one optical transmission line is monitored to determine if the attack is complete.
机译:用包含CH 3气体的等离子体对铟锡氧化物进行酸洗。监视至少一条光传输线的特征强度以确定攻击是否完成。

著录项

  • 公开/公告号EP0485590A1

    专利类型

  • 公开/公告日1992-05-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 EASTMAN KODAK COMPANY;

    申请/专利号EP19910911969

  • 发明设计人 ROSELLE PAUL L. C/O EASTMAN KODAK COMPANY;

    申请日1991-06-03

  • 分类号H01L21/302;C04B41/53;C04B41/91;H01L27/146;H01L31/18;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-22 05:29:19

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