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机译:光学发射光谱法确定氧化铟锡的刻蚀完成。
公开/公告号EP0485590A1
专利类型
公开/公告日1992-05-20
原文格式PDF
申请/专利权人 EASTMAN KODAK COMPANY;
申请/专利号EP19910911969
发明设计人 ROSELLE PAUL L. C/O EASTMAN KODAK COMPANY;
申请日1991-06-03
分类号H01L21/302;C04B41/53;C04B41/91;H01L27/146;H01L31/18;
国家 EP
入库时间 2022-08-22 05:29:19
机译: 光学发射光谱法确定氧化铟锡的刻蚀完成。
机译: 抗热应力,低排放的多层层压板,用于涂覆透明基材,例如玻璃板,包括镍铬或铟锡氧化物扩散阻挡层,以改善光学性能