首页> 外国专利> METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND GATE OF DEVICE FOR RESIN-SEALING SURFACE OF SEMICONDUCTOR WAFER

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND GATE OF DEVICE FOR RESIN-SEALING SURFACE OF SEMICONDUCTOR WAFER

机译:半导体晶片的树脂密封面的半导体装置的制造方法及装置的浇口

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the damage to a semiconductor wafer to the utmost by reducing the force applied to the semiconductor wafer to the utmost in a process for mounting the semiconductor wafer in a mold to seal the surface of the wafer with a resin.;SOLUTION: An impact relaxing means for reducing the force applied to the semiconductor wafer is provided under a lower mold.;COPYRIGHT: (C)2002,JPO
机译:要解决的问题:在将半导体晶片安装到模具中以用树脂密封晶片表面的过程中,通过最大程度地减小施加到半导体晶片的力,来最大程度地减少对半导体晶片的损坏。 ;解决方案:下部模具下方提供了一种减轻冲击力的装置,以减小施加到半导体晶圆上的力。;版权所有:(C)2002,JPO

著录项

  • 公开/公告号KR100899151B1

    专利类型

  • 公开/公告日2009-05-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20080030823

  • 发明设计人 마쓰모토 지로;

    申请日2008-04-02

  • 分类号H01L21/56;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 19:11:56

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号