首页> 外国专利> An integrated circuit with a connection produced by a galvanic process with a heat sink and method for this purpose,

An integrated circuit with a connection produced by a galvanic process with a heat sink and method for this purpose,

机译:一种具有通过电镀工艺与散热器连接的集成电路和用于此目的的方法,

摘要

An integrated circuit comprising:a semiconductor substrate (116, 202);a on the semiconductor substrate (116, 202), which first electrical contact (110, 230); andthe way of a compound produced by a galvanic process with the first electrical contact (110, 230) connected to first heatsink element (102, 240).
机译:一种集成电路,包括:半导体衬底(116、202);在所述半导体衬底(116、202)上的第一电触点(110、230);以及以及通过流电过程产生的化合物的方式,其中第一电触点(110、230)连接到第一散热器元件(102、240)。

著录项

  • 公开/公告号DE102008036285B4

    专利类型

  • 公开/公告日2013-07-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;

    申请/专利号DE20081036285

  • 发明设计人 CARSTEN VON KOBLINSKI;FRIEDRICH KROENER;

    申请日2008-08-04

  • 分类号H01L23/36;H01L21/288;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 16:22:35

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