机译:制备光化射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的方法,制备光化射线敏感或辐射敏感的膜的方法,制备具有光化射线敏感或辐射敏感的膜的掩模坯的方法,方法,图案形成方法和电子设备制造方法
公开/公告号JP6353681B2
专利类型
公开/公告日2018-07-04
原文格式PDF
申请/专利权人 富士フイルム株式会社;
申请/专利号JP20140073965
申请日2014-03-31
分类号G03F7/004;G03F7/039;C09K3;C07C381/12;C07C309/31;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 13:07:22