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AN OXIDE-BASED RESISTIVE SWITCHING MEMORY DEVICE USING A SINGLE NANO-PORE STRUCTURE AND METHOD FOR FABRICATING THE DEVICE

机译:使用单纳米孔结构的基于氧化物的电阻型开关存储器件及其制造方法

摘要

An oxide based resistance switching memory device using a single nano void structure and a method for fabricating the same are disclosed. A method for fabricating a resistance switching memory device includes forming a lower electrode layer on a substrate, forming a memory material layer on the lower electrode layer, forming a metal layer for void formation in a predetermined region of the memory material layer A void forming step of forming voids by removing a memory material layer under the void forming metal layer, and an upper electrode forming step of forming an upper electrode on the formed voids.
机译:公开了使用单纳米空隙结构的基于氧化物的电阻开关存储器件及其制造方法。一种制造电阻切换存储器件的方法,包括在基板上形成下部电极层,在下部电极层上形成存储材料层,在存储材料层的预定区域中形成用于形成空隙的金属层。空隙形成步骤通过去除在空隙形成金属层下面的存储材料层来形成空隙的步骤,以及在形成的空隙上形成上电极的上电极形成步骤。

著录项

  • 公开/公告号KR101948638B1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-02-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 고려대학교 산학협력단;

    申请/专利号KR20170032424

  • 发明设计人 왕건욱;권순방;

    申请日2017-03-15

  • 分类号H01L45;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 11:49:11

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