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带厚栅极氧化层的多次可编程非易失性存储器件

摘要

根据一个实施例的一种多次可编程(MTP)存储单元,包括浮栅PMOS晶体管、高压NMOS晶体管、以及n阱电容器。浮栅PMOS晶体管包括形成该存储单元第一端子的源极,并包括漏极和栅极。该高压NMOS晶体管包括连接地的源极、连接于PMOS晶体管漏极的延长的漏极、以及形成该存储单元第二端子的栅极。该n阱电容器包括连接于PMOS晶体管栅极的第一端子、以及形成该存储单元第三端子的第二端子。该浮栅PMOS晶体管可存储一逻辑状态。可对存储单元的第一、第二和第三端子施加各种电压的组合以编程、禁止编程、读取和擦除该逻辑状态。

著录项

  • 公开/公告号CN101807580B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-02-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 英特赛尔美国股份有限公司;

    申请/专利号CN201010127719.3

  • 发明设计人 A·卡尔尼特斯基;M·丘奇;

    申请日2007-04-20

  • 分类号H01L27/115(20060101);H01L21/8247(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人刘佳

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-02-08

    授权

    授权

  • 2010-10-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/115 申请日:20070420

    实质审查的生效

  • 2010-08-18

    公开

    公开

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