具有用来将浆料保留在抛光垫构造上的凹槽的抛光垫及其制备方法

摘要

一种设计用来结合抛光介质使用的旋转化学机械抛光垫。所述抛光垫包括具有抛光面的抛光层，所述抛光面具有多个凹槽。所述多个凹槽中的每一个的至少一部分具有一定的形状和取向，所述形状和取向作为抛光介质在抛光垫使用过程中的流径的函数确定。