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槽栅型源-漏复合场板异质结场效应晶体管及其制作方法

摘要

本发明公开了一种槽栅型源-漏复合场板异质结场效应晶体管及其制作方法,该器件自下而上包括衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、源极(4)、漏极(5)、槽栅(7)、钝化层(8)、源场板(9)、漏场板(11)和保护层(12),该漏场板与漏极电气连接,该源场板与源极电气连接,其中,势垒层(3)上开有凹槽(6);源场板与漏场板之间的钝化层上淀积有n个浮空场板(10)。每个浮空场板大小相同,处于浮空状态,且按照等间距的方式分布于源场板与漏场板之间。n个浮空场板与源场板和漏场板在钝化层上通过一次工艺完成。本发明具有成品率高、可靠性好和输出功率高的优点,可制作基于宽禁带化合物半导体材料异质结的功率器件。

著录项

  • 公开/公告号CN101414623B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-08-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN200810232526.7

  • 发明设计人 郝跃;毛维;过润秋;杨翠;

    申请日2008-12-01

  • 分类号H01L29/772(20060101);H01L29/06(20060101);H01L21/335(20060101);

  • 代理机构61205 陕西电子工业专利中心;

  • 代理人王品华;朱红星

  • 地址 710071 陕西省西安市太白路2号

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-01-14

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 29/772 变更前: 变更后: 登记生效日:20141225 申请日:20081201

    专利申请权、专利权的转移

  • 2010-08-11

    授权

    授权

  • 2009-06-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-04-22

    公开

    公开

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