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掩模对准标记组合、掩模对准系统及对准方法、光刻装置

摘要

本发明提供了一种掩模对准标记组合、掩模对准系统及对准方法、光刻装置,掩模板的X方向和Y方向均包括两组对准标记,X方向上的两组对准标记及Y方向上的两组对准标记均关于掩模板的中心对称设置,在进行掩模对准时,辐射探测组件接收依次经过掩模对准标记组合、投影组件及基准参考标记组合的对准光束,并得到对应每组对准标记的对准位置信息,计算组件可以根据多个所述对准位置信息得到所述基准板的位姿信息,而所述基准板的位姿信息能够更准确的表达所述基准板与所述掩模板的相对位置关系。

著录项

  • 公开/公告号CN111624861B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备(集团)股份有限公司;

    申请/专利号CN201911144194.1

  • 发明设计人 李道萍;孙建超;

    申请日2019-11-20

  • 分类号G03F9/00(20060101);

  • 代理机构31295 上海思捷知识产权代理有限公司;

  • 代理人王宏婧

  • 地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 12:22:33

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