摘要
第一章 绪论
1.1 课题背景
1.2 典型光刻系统分类
1.2.1 接触式/接近式光刻系统
1.2.2 光学投影式光刻系统
1.3 光学投影式光刻系统的性能参数
1.4 国内外研究现状
1.5 课题研究的目的与意义
1.6 论文主要研究内容
第二章 套刻理论及对准技术
2.1 引言
2.2 相关对准技术分类
2.2.1 双光束TTL对准技术
2.2.2 明场和暗场对准技术
2.2.3 同轴对准技术
2.2.4 离轴对准技术
2.2.5 同轴对准与离轴对准相结合的对准技术
2.2.6 Moiré条纹对准技术
2.2.7 相位光栅衍射对准技术
2.2.8 视频图像匹配对准技术
2.3 本章小结
第三章 基于仿射变换单应矩阵的投影套刻对位系统及其对准方法
3.1 引言
3.2 系统硬件部分组成
3.2.1 光学照明系统
3.2.2 CMOS成像设备
3.2.3 光学显微成像系统
3.2.4 计算机系统
3.3 图像匹配对准方法分类及相关分析
3.3.1 图像匹配对准方法分类
3.3.2 图像匹配对准方法构成要素
3.4 提取轮廓线特征点
3.4.1 边缘轮廓线检测
3.4.2 轮廓线插值特征点
3.5 本文提出的新匹配算法
3.5.1 数值模拟结果
3.5.2 实验结果
3.5.3 误差分析
3.6 本文提出的对准方法
3.7 本章小结
第四章 套刻对准方法在投影式光刻系统中的实验分析
4.1 引言
4.2 套刻对位系统中光学显微物镜组的MTF分析
4.2.1 传统的成像系统MTF测量原理
4.2.2 本节提出的MTF测量原理
4.3 实验结果及分析
4.4 本章小结
第五章 平顶分布的紫外准分子激光生成方法
5.1 引言
5.2 部分相干光高斯-谢尔模型
5.3 数值模拟
5.4 本章小结
总结与展望
参考文献
攻读硕士学位期间取得的研究成果
声明
致谢