公开/公告号CN100587603C
专利类型发明授权
公开/公告日2010-02-03
原文格式PDF
申请/专利权人 上海微电子装备有限公司;
申请/专利号CN200710045037.6
申请日2007-08-20
分类号G03F7/20(20060101);G03F9/00(20060101);
代理机构31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人屈蘅
地址 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
入库时间 2022-08-23 09:04:05
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-06-23
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 申请日:20070820
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2010-02-03
授权
授权
2008-05-07
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-03-12
公开
公开
机译: 对准标记的识别标记和形成方法识别标记和发光部分的组合掩模对准方法的形成,使用对准标记的识别标记
机译: 同轴掩模对准装置,光刻装置和对准方法
机译: 同轴掩模对准装置,光刻装置和对准方法