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BiCMOS结构和在BiCMOS工艺中形成基极的方法

摘要

本发明提供了制造具有抬升外部基极的异质结双极晶体管的方法,其中,通过在抬升外部基极上形成硅化物,降低了基极电阻,所述硅化物以自对准的方式向发射极区域延伸。在形成抬升外部基极之后,将硅化物的形成结合到BiCMOS工艺流程中。本发明还提供了一种异质结双极晶体管,其具有抬升外部基极和位于抬升外部基极上的硅化物。在抬升外部基极上的硅化物以自对准的方式向发射极延伸。发射极通过衬垫与硅化物隔开。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L29/73 授权公告日:20080813 终止日期:20190311 申请日:20050311

    专利权的终止

  • 2008-08-13

    授权

    授权

  • 2008-08-13

    授权

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  • 2005-11-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-11-16

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-09-14

    公开

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  • 2005-09-14

    公开

    公开

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