公开/公告号CN100411190C
专利类型发明授权
公开/公告日2008-08-13
原文格式PDF
申请/专利权人 国际商业机器公司;
申请/专利号CN200510053789.8
申请日2005-03-11
分类号H01L29/73(20060101);H01L29/737(20060101);H01L21/331(20060101);H01L21/28(20060101);H01L21/8249(20060101);
代理机构11247 北京市中咨律师事务所;
代理人于静;李峥
地址 美国纽约
入库时间 2022-08-23 09:00:58
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-03-10
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L29/73 授权公告日:20080813 终止日期:20190311 申请日:20050311
专利权的终止
2008-08-13
授权
授权
2008-08-13
授权
授权
2005-11-16
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-11-16
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-09-14
公开
公开
2005-09-14
公开
公开
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机译: BiCMOS工艺中的基极形成方法
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