公开/公告号CN100383969C
专利类型发明授权
公开/公告日2008-04-23
原文格式PDF
申请/专利权人 国际商业机器公司;
申请/专利号CN200510067824.1
申请日2005-04-26
分类号H01L27/088(20060101);H01L27/105(20060101);H01L21/28(20060101);H01L21/31(20060101);H01L21/336(20060101);H01L21/762(20060101);H01L21/8234(20060101);
代理机构11247 北京市中咨律师事务所;
代理人于静;李峥
地址 美国纽约
入库时间 2022-08-23 09:00:49
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-06-27
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 27/088 授权公告日:20080423 终止日期:20110426 申请日:20050426
专利权的终止
2008-04-23
授权
授权
2006-01-18
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-11-23
公开
公开
机译: 包括交叉耦合晶体管的集成电路,该交叉耦合晶体管具有在栅级特征内形成的栅电极,布局通道具有至少两个栅电极通过形成栅级特征的另一晶体管彼此电连接
机译: 包括栅电极走线的集成电路,每个栅电极走线形成不同晶体管类型的栅电极,中间插入非门形成栅电极走线
机译: 包括交叉耦合的晶体管的集成电路,该交叉耦合的晶体管具有在栅级内形成的栅电极的特征布局通道,该布局通道具有至少两个不同的栅级特征在栅电极之外的内部延伸