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差分硅通孔阵列中的噪声抑制方法及其差分信号传输结构

摘要

本发明公开差分硅通孔阵列中的噪声抑制方法及其差分信号传输结构。本发明采用在差分对结构间引入补偿电容的方法,从而达到降低差分信号之间的串扰。差分信号传输结构包括顶层介质层和底层半导体衬底层。顶层介质层内设置有两个MIM电容;第一MIM电容由第一金属上极板、第一MIM电容介质、第一金属下极板构成,第二MIM电容由第二金属上极板、第二MIM电容介质、第二金属下极板构成;底层半导体衬底层内设有五个上下贯通的硅通孔;第一金属柱、第二金属柱组成第一个差分对结构,第三金属柱、第四金属柱组成第二个差分对结构,用于传输差分信号;第五金属柱作为返回路径。

著录项

  • 公开/公告号CN108565256B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州电子科技大学;

    申请/专利号CN201810320148.1

  • 发明设计人 赵文生;泮金炜;王高峰;

    申请日2018-04-11

  • 分类号

  • 代理机构杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人黄前泽

  • 地址 310018 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街

  • 入库时间 2022-08-23 10:41:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-18

    授权

    授权

  • 2018-10-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 23/538 申请日:20180411

    实质审查的生效

  • 2018-10-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 23/538 申请日:20180411

    实质审查的生效

  • 2018-09-21

    公开

    公开

  • 2018-09-21

    公开

    公开

  • 2018-09-21

    公开

    公开

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