公开/公告号CN105700292B
专利类型发明专利
公开/公告日2019-10-11
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳市华星光电技术有限公司;
申请/专利号CN201610255462.7
申请日2016-04-21
分类号G03F7/00(20060101);
代理机构44265 深圳市德力知识产权代理事务所;
代理人林才桂
地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号
入库时间 2022-08-23 10:41:46
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-10-11
授权
授权
2016-07-20
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20160421
实质审查的生效
2016-07-20
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20160421
实质审查的生效
2016-06-22
公开
公开
2016-06-22
公开
公开
机译: 用于纳米压印的模板,使用用于纳米压印的模板形成图案的方法以及用于生产纳米压印的模板的方法
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