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纳米压印模板的制作方法及纳米压印模板

摘要

本发明提供一种纳米压印模板的制作方法及纳米压印模板。本发明的纳米压印模板的制作方法,先在圆柱状的硬质滚筒的外圆周面上包覆一层软性的具有纳米线栅结构的膜片,形成纳米线栅结构膜层,得到中间筒体,然后利用低熔点焊料合金在所述中间筒体的外圆周面上沿所述纳米线栅结构膜层的纳米线栅结构形成一层结构硬化层,得到具有纳米线栅结构的纳米压印模板;通过在软质的纳米线线栅结构上形成一层硬质的结构硬化层,对软质的纳米线线栅结构进行硬化,从而克服在压印过程中微结构材质本身硬度不够的问题,使得卷对卷微结构压印,特别是纳米线栅压印成为实际工艺中可行的一部分,进而提高线栅偏光片的制作效率。

著录项

  • 公开/公告号CN105700292B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201610255462.7

  • 发明设计人 陈黎暄;李泳锐;

    申请日2016-04-21

  • 分类号G03F7/00(20060101);

  • 代理机构44265 深圳市德力知识产权代理事务所;

  • 代理人林才桂

  • 地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号

  • 入库时间 2022-08-23 10:41:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-11

    授权

    授权

  • 2016-07-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20160421

    实质审查的生效

  • 2016-07-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20160421

    实质审查的生效

  • 2016-06-22

    公开

    公开

  • 2016-06-22

    公开

    公开

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