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Xuesong Jiang; 姜学松; Hong Lin; 林宏; Jie Yin; 印杰;
中国感光学会;
纳米材料; 压印光刻胶; 软模板; 紫外光固化; 硫-烯点击反应;
机译:用于纳米压印光刻(NIL)高性能复制模具的“硫醇-烯”光固化混合氟化抗蚀剂
机译:新型有机可光固化纳米压印抗蚀剂“ MR-NIL210”使用基于PDMS的软印章进行大批量加工的方法
机译:与2,8-二硫-3,7-二氮杂-5-氧杂-壬二硫酰胺-1,9和2,7-二硫-3,6-二氮杂二烯-3,5-二硫酰胺形成的钴(III)螯合物的软模板合成-l,8成固定有明胶的高铁酸钴(III)(II)的基质材料
机译:使用带有软PDMS压模的热纳米压印光刻技术直接模制硫属化物玻璃波导
机译:基于双(三氟甲基)二硫代烯和不稳定配体的钼双(二硫代烯)配合物的反应和性质。
机译:硫和铁双掺杂介孔碳的软模板化:混合物中铅的吸附
机译:光学纳米压印使用塑料模板和可见光可光固化树脂
机译:4,5-亚甲基二硫代-4',5'-丙二硫代硫代富瓦烯(mpT)和4,5-亚乙二硫基-4',5'-丙二硫代硫代富瓦烯(EpT)
机译:用于纳米压印的模板,使用用于纳米压印的模板形成图案的方法以及用于生产纳米压印的模板的方法
机译:适用于157 nm光刻的光刻胶,包括基于氟化降冰片烯衍生物的聚合物
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