基于复合软模板纳米压印技术制备图案化蓝宝石衬底的方法

摘要

本发明提供了一种基于复合软模板纳米压印技术制备图案化蓝宝石衬底的方法，包括以下步骤：（1）在蓝宝石衬底上沉积一层二氧化硅作为湿法腐蚀掩膜；（2）在二氧化硅层上旋涂一层紫外光固化胶，利用复合软模板纳米压印方法将结构转移到胶层上；（3）利用ICP刻蚀方法去除残余层暴露出二氧化硅表面，并继续刻蚀将结构转移到二氧化硅层；（4）以二氧化硅层为掩膜用硫酸和磷酸混合液湿法腐蚀蓝宝石，最后用氢氟酸将二氧化硅层去除得到图案化蓝宝石衬底。本发明的优点在于利用了复合软模板纳米压印技术，相较于传统光刻方法，可以低成本、大面积的制备小尺度的图案；解决了腐蚀掩膜不规则和干法刻蚀蓝宝石成本高的问题，提高了LED的出光效率。