公开/公告号CN105810556B
专利类型发明专利
公开/公告日2019-03-15
原文格式PDF
申请/专利权人 无锡华润上华科技有限公司;
申请/专利号CN201410853471.7
申请日2014-12-31
分类号
代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司;
代理人邓云鹏
地址 214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号
入库时间 2022-08-23 10:28:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-15
授权
授权
2017-10-20
专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L21/02 登记生效日:20170926 变更前: 变更后: 申请日:20141231
专利申请权、专利权的转移
2017-10-20
专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L 21/02 登记生效日:20170926 变更前: 变更后: 申请日:20141231
专利申请权、专利权的转移
2016-08-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20141231
实质审查的生效
2016-08-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20141231
实质审查的生效
2016-08-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20141231
实质审查的生效
2016-07-27
公开
公开
2016-07-27
公开
公开
2016-07-27
公开
公开
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机译: 在硅衬底中进行各向异性深沟槽刻蚀的方法包括在硅衬底中进行深沟槽刻蚀直至达到规定的刻蚀深度,以便用侧壁钝化的保护层代替再沉积物。
机译: 用于在电容器制造中产生深沟槽的干法刻蚀方法包括调节和控制气体的体积和压力,以获得用于各向异性刻蚀的刻蚀方法所需的选择性。
机译: 在基板上深深地使用沟槽沟槽刻蚀方法和相同的刻蚀方法的片上器件的制造方法和精细加工结构