法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-01-11
授权
授权
2017-07-18
实质审查的生效 IPC(主分类):C09G1/02 申请日:20161206
实质审查的生效
2017-07-18
实质审查的生效 IPC(主分类):C09G 1/02 申请日:20161206
实质审查的生效
2017-06-23
公开
公开
2017-06-23
公开
公开
2017-06-23
公开
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机译: 用于抛光金属线的CMP浆料组合物,能够获得对金属线和氧化物膜的合适的抛光速度选择性比,以及使用相同方法的抛光方法
机译: 使用用于有机膜抛光的CMP用浆料组合物进行CMP工艺的方法和使用该浆料组合物的半导体器件的制造方法
机译: 用于研磨低表面缺陷的金属线的CMP浆料组合物及其使用的抛光方法