公开/公告号CN1311536C
专利类型发明授权
公开/公告日2007-04-18
原文格式PDF
申请/专利权人 联华电子股份有限公司;
申请/专利号CN02129831.9
申请日2002-08-15
分类号H01L21/66(20060101);
代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;
代理人陈红
地址 台湾省新竹市
入库时间 2022-08-23 08:59:18
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2007-04-18
授权
授权
2004-04-28
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-02-18
公开
公开
机译: 在金属氧化物半导体场效应晶体管中测量有效沟道长度和重叠长度的方法
机译: 在金属氧化物半导体场效应晶体管中测量有效沟道长度和重叠长度的方法
机译: 包括用于测试有效通道长度的测试模式的半导体装置以及使用该测试模式测量有效通道的长度的方法