多元靶双靶共溅射制备铜锌锡硫薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种多元靶双靶共溅射制备铜锌锡硫(CZTS)薄膜的方法，包括以下步骤：1）钠钙玻璃(SLG)的清洗；2）在洗净的SLG表面上镀1μm厚的钼电极；3）用铜锡硫(CTS)靶及硫化锌(ZnS)靶溅射得到铜锌锡硫薄膜预制层；4）将上述条件下制备的预制层进行合金处理；5）将步骤4中经过合金处理的预制层硫化退火(570~590℃，25‑35min)得到CZTS薄膜；相比于传统的多靶(单质靶或二元靶)分步溅射或多靶(单质靶或二元靶)共溅射优点在于：本方法基于CZTS的形成机理(CTS＋ZnS=CZTS)，只需一个Cu‑Sn‑S靶及一个ZnS靶共溅射预制层并通过后续的退火就能得到CZTS薄膜，该方法工艺过程简单、成膜效率高，能有效抑制铜硫相(Cu