Properties of indium tin oxide films prepared by two-targets magnetron sputtering

机译：氮掺杂对磁控溅射氮化镓发光二极管铟锡氧化物薄膜结构，光学和电学性能的影响

机译：放电功率和退火温度对脉冲直流磁控溅射制备铟锡氧化物薄膜性能的影响

机译：离子轰击诱导的等离子体辅助反应磁控溅射制备的铟锡氧化物薄膜的性能增强

机译：双靶磁控溅射制备的氧化铟锡膜的性质

机译：通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌，氧化铟锡和钼薄膜的表征

机译：反应磁控溅射制备的电致变色铟锡锌氧化物薄膜

机译：锌掺杂铟锡氧化物薄膜的热电性能使用磁控凝固法制备

机译：在基质上制造平坦的氧化铟锡层的方法，包括步骤：溅射沉积铟锡氧化物层的一部分，加热基质，然后溅射沉积铟锡氧化物层的另一部分，以及涂覆基质氧化铟锡

机译：磁控负离子溅射源制备铟锡氧化物薄膜的方法

机译：使用磁控管负离子溅射源形成铟锡氧化物薄膜的方法