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使用多变量分析的等离子体蚀刻终点检测

摘要

公开了一种用于使用光学发射光谱(OES)数据作为输入确定蚀刻过程的终点的方法。由附接至等离子体蚀刻处理工具的光谱仪获得光学发射光谱(OES)数据。首先将获得的时间演变光谱数据过滤和去均值,之后使用诸如主成分分析的多变量分析,将获得的时间演变光谱数据变换成变换后的光谱数据或趋势,在主成分分析中先前计算的主成分权重用来实现该变换。包含多个趋势的函数形式可以用于更精确地确定蚀刻过程的终点。公开了用于在实际蚀刻之前基于从先前蚀刻处理收集的OES数据计算主成分权重的方法,该方法有助于趋势和包含多个趋势的函数形式的快速计算,用于蚀刻过程终点的有效和准确的在线确定。

著录项

  • 公开/公告号CN104736744B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-06-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN201380054482.2

  • 发明设计人 陈艳;谢尔盖·科马罗夫;维·翁;

    申请日2013-10-17

  • 分类号

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人杜诚

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:56:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-06

    授权

    授权

  • 2015-07-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23F 1/00 申请日:20131017

    实质审查的生效

  • 2015-06-24

    公开

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