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用于鳍状场效应晶体管的金属栅极和栅极接触件结构

摘要

本发明公开了用于鳍状场效应晶体管的金属栅极和栅极接触件结构,其中本公开的实施例包括:衬底,衬底的一部分向上延伸形成鳍状物;覆盖鳍状物的顶面和侧壁的栅极介电层;覆盖栅极介电层的衬垫;以及位于覆盖栅极介电层的衬垫的一部分之上的连续金属部件,其中衬垫从连续金属部件的顶面开始延伸并覆盖金属部件的侧壁,栅极介电层、衬垫和连续金属部件共同形成栅极、栅极接触势垒和栅极接触件。本发明还公开了用于鳍状场效应晶体管的金属栅极和栅极接触件结构。

著录项

  • 公开/公告号CN104009070B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201310201889.5

  • 发明设计人 刘继文;王昭雄;

    申请日2013-05-27

  • 分类号

  • 代理机构北京德恒律治知识产权代理有限公司;

  • 代理人章社杲

  • 地址 中国台湾新竹

  • 入库时间 2022-08-23 09:54:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-04-12

    授权

    授权

  • 2014-09-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/423 申请日:20130527

    实质审查的生效

  • 2014-08-27

    公开

    公开

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