固结磨料化学机械抛光铜的加工方法

摘要

一种固结磨料化学机械抛光铜的加工方法，其特征是采用氧化铈固结磨料抛光垫对铜或铜膜进行抛光加工，控制抛光温度在10~30℃，抛光压力控制在10~50 kPa，抛光液由不含磨料的去离子水、表面活性剂、抑制剂、配位剂、pH调节剂、氧化剂和氧化剂稳定剂组成，抛光液流速为60~200 ml/min，抛光盘转速为50~200 r/min，可获得纳米级精度的表面粗糙度，表面质量优。本发明提高了铜的加工效率和表面质量，避免磨粒划伤金属表面，成品合格率高，不会造成环境污染，清洗容易，成本低。